碳化硅靶材（SiC）

产品简介（Introduction）

碳化硅靶材（Silicon Carbide Sputtering Target，SiC）是一种具有超高硬度、优异耐腐蚀性、卓越耐高温性及良好电学和光学性能的陶瓷靶材。在半导体、光电器件、高耐磨涂层、薄膜电极以及先进材料制备中，SiC 靶材因其稳定性、均匀性与高可靠性而成为关键薄膜材料。

SiC 拥有约 2700°C 的熔点、高热导率、化学惰性强，可在严苛工况下保持稳定，是用于制备耐磨层、阻挡层、透光涂层和薄膜电极的理想材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高质量碳化硅靶材，特点如下：

• 纯度：
  99%–99.9%（2N–3N），可按需提高等级。

• 可提供形状：

  • 圆形靶（直径 25–300 mm）

  • 方形、矩形靶（可定制）

  • 厚度：3–6 mm（可按设备要求调整）

• 制造工艺：

  • 高纯超细 SiC 粉末（纳米/亚微米级）

  • 真空热压烧结（HP）

  • 热等静压（HIP）提升致密度（≥95%–99% TD）

  • 高精度研磨抛光（Ra < 0.4 μm）
    高致密度结构可减少溅射颗粒，提高薄膜均匀性及重复性。

• 背板结合（可选）：

  • Cu 背板

  • Mo 背板

  • 铟焊（Indium Bonding）
    用于陶瓷靶材的散热增强与防爆靶设计。

SiC 靶材适用于 DC/RF 磁控溅射、E-beam 蒸镀协同膜系、IBS、HiPIMS 等先进工艺。

应用领域（Applications）

碳化硅靶材广泛用于电子、光学、能源、航空航天和科研等领域，包括：

半导体领域

• SiC 功率器件薄膜

• 绝缘层/阻挡层

• MEMS 结构膜

光学与光电应用

• 红外/可见光吸收膜

• 高耐磨光学保护膜

• 透明或半透明功能膜

硬质涂层（PVD）

• 耐磨涂层

• 高硬度保护膜

• 工具/模具表面强化涂层

新能源技术

• 薄膜电极

• 电池保护层

• 高温防护膜

科学研究

• 金属碳化物体系薄膜

• 多层复合膜（SiC/TiN、SiC/CrN 等）

• SiC 基电子结构与光学性能研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

• 氩气保护或真空密封

• 防静电袋 + 防震珍珠棉

• 出口级木箱或加厚纸箱

• 附唯一批号与 COA

确保在运输与长期储存中保持清洁、无污染、安全稳定。

结论（Conclusion）

碳化硅靶材以其卓越的硬度、高温稳定性、耐腐蚀性和优异电学/光学特性，成为半导体、光学保护膜、耐磨涂层以及先进材料研究的重要材料。高纯、高致密 SiC 靶材能够显著提升薄膜性能与稳定性，是高端薄膜沉积工艺的理想选择。

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