碲靶材(Te)

碲靶材(Te Sputtering Target)

产品简介

碲(Tellurium, Te)是一种具有金属光泽的类金属元素,呈银灰至蓝灰色,具有良好的半导体特性与热电性能。碲靶材广泛用于红外探测器、光伏电池、光电传感器及半导体薄膜制备中。由于其独特的电学与光学特性,碲靶材是制备CdTe、Bi₂Te₃、GeTe等化合物薄膜的重要基础材料之一。

产品详情

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度碲靶材(纯度99.9%–99.999%),采用真空熔炼与冷等静压(CIP)工艺制备,结构致密均匀,杂质含量极低,确保溅射膜层的高纯度与稳定性。
靶材可制成圆形、矩形、环形及异形结构,适配DC(直流)与RF(射频)磁控溅射系统。
可选铜(Cu)、钛(Ti)或铟焊(In Bonded)背板结合,以提高散热性能与机械强度。

技术特点

  • 高纯度、低氧含量,膜层缺陷少;

  • 优异的溅射稳定性与膜厚均匀性;

  • 可实现高平整度与优良附着性;

  • 可提供多种定制规格与背板焊接。

应用领域

  • 红外探测与热电材料:用于Bi₂Te₃、GeTe等热电薄膜制备;

  • 光伏电池:用于CdTe太阳能电池吸收层制备;

  • 光电子器件:用于红外光电探测膜与调制膜;

  • 半导体制造:用于功能薄膜及掺杂层;

  • 科研实验:用于复合化合物与相变材料研究。

技术参数

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.999% 纯度高可减少膜层杂质
直径 25 – 300 mm(可定制) 适配主流溅射设备
厚度 3 – 6 mm 影响溅射速率与膜厚控制
密度 ≥ 6.24 g/cm³ 致密度高,溅射速率稳定
背板结合 Cu / Ti / In 焊 提高散热与结构稳定性
制备工艺 真空熔炼 + CIP 微结构均匀,表面光洁度高

常见问题(FAQ)

问题 答案
碲靶材适用于哪些溅射系统? 可用于DC与RF磁控溅射系统。
碲靶材的主要用途是什么? 用于CdTe、Bi₂Te₃等化合物薄膜的制备。
是否可与其他材料共溅射? 可以,与Cd、Bi、Ge等共溅射以形成复合薄膜。
是否易氧化? 表面在空气中会缓慢氧化,建议真空或惰性气氛保存。
是否支持背板焊接? 可提供Cu、Ti或In焊结合,提高导热与稳定性。
可否定制尺寸? 可提供Ø25–Ø300 mm及矩形、异形规格。
是否适用于红外或光伏领域? 是的,常用于红外探测器和CdTe太阳能电池。
包装方式? 真空密封、防震、防潮包装,确保洁净运输。

结论

碲靶材凭借优异的电学与光学性能,在光电探测、热电发电与光伏薄膜制备中具有重要地位。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、致密结构的碲靶材,满足科研与工业客户对高性能材料的需求,确保薄膜质量与稳定性。

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