碲化锰靶材(MnTe)

产品简介(Introduction)

碲化锰(MnTe)是一类重要的过渡金属碲化物材料,兼具半导体特性与独特的反铁磁行为,在自旋电子学(spintronics)、红外探测、热电薄膜以及磁性半导体研究中具有广泛应用。MnTe 溅射靶材可在薄膜沉积过程中形成组成稳定、均匀致密的薄膜结构,是研究二维磁性材料、磁电耦合和功能薄膜的重要材料来源。

凭借良好的化学稳定性与较高致密度,MnTe 靶材常用于高端制造、新型器件开发和科研实验。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密度的 MnTe 溅射靶材,支持定制成分、尺寸与烧结工艺。

● 典型规格

  • 纯度:99.9%(3N)– 99.99%(4N)

  • 尺寸:Φ25–300 mm 可定制

  • 厚度:3–6 mm(可根据需求调整)

  • 形状:圆形靶、矩形靶、特规形状

  • 密度:接近理论密度,减少溅射颗粒

  • 工艺:真空烧结、热压(HP)、CIP/HIP

  • 背板选择:可提供 Cu / Ti 背板 + 铟焊(Indium Bonding)

● 工艺性能优势

  • 成膜成分保持性优秀

  • 膜层均匀性、致密性优良

  • 适合低温与常规溅射条件

  • 稳定性好,不易分解或氧化


应用领域(Applications)

MnTe 由于其磁性与半导体特性组合,在前沿材料研究领域表现突出:

  • 自旋电子学(Spintronics)
    MnTe 是典型反铁磁半导体材料,适用于自旋阀、磁阻器件、二维磁性研究。

  • 红外探测与光电薄膜
    MnTe 在红外波段具有良好吸收特性,可用于光探测薄膜。

  • 磁性半导体(Magnetic Semiconductors)
    用于新一代可调控磁性半导体器件。

  • 热电薄膜
    金属碲化物类薄膜具备潜力用于热电应用。

  • 基础科研
    用于反铁磁耦合机制、能带结构调控、量子材料研究等。


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 / 典型值 说明
纯度 3N – 4N 纯度越高,薄膜缺陷越低
直径 25–300 mm 兼容主流溅射设备
厚度 3–6 mm 影响沉积速率与温度管理
致密度 ≥95% TD 促进薄膜致密性与均匀性
背板 Cu / Ti / 铟焊 提升散热性能与机械稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 典型应用
MnTe 反铁磁性 + 半导体特性 自旋电子学、红外探测
MnSe 带隙更大,光学特性突出 光学薄膜、红外器件
FeTe 铁基材料,磁性强 磁性薄膜、电子结构研究

常见问题(FAQ)

问题 答案
MnTe 靶材适用于哪种溅射? RF 与 DC 磁控溅射均可使用。
MnTe 是否易氧化? Mn 元素活性较高,建议在干燥环境保存,但短时曝光无影响。
可否定制 Mn:Te 比例? 可以,可根据研究需求调整成分配比。
薄膜成分是否易偏析? 使用高致密度靶材可大幅降低成分偏析风险。
能否制作带 Cu 背板? 可以,并提供专业铟焊。
是否可用于二维磁性材料研究? 是的,MnTe 是典型二维反铁磁体系材料。
是否与玻璃、Si、蓝宝石兼容? 兼容性良好,可形成附着性强的薄膜。

包装与交付(Packaging)

  • 全程真空密封

  • 干燥剂保护

  • 防震泡沫与出口级木箱

  • 附带唯一溯源码与质检报告(可含密度、ICP 成分分析)


结论(Conclusion)

碲化锰(MnTe)作为一种兼具磁性与半导体特性的功能材料,在自旋电子学、红外探测与先进薄膜工程中具有重要价值。苏州科跃材料科技有限公司可为您提供高纯度、高致密度、尺寸可定制的 MnTe 溅射靶材,为科研与产业化工艺提供可靠材料支持。

如需报价、技术参数或样品,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com