碲化锌蒸发材料（ZnTe）

产品详情（Detailed Description）

碲化锌蒸发材料通常采用高纯锌与高纯碲为原料，通过真空合成或受控熔炼工艺制备形成稳定的 Zn–Te 化合物相，并严格控制氧、碳等杂质含量，以确保材料纯度及蒸发过程中的成分一致性。

• 纯度等级：99.9%（3N）–99.99%（4N），适用于科研及高端半导体薄膜沉积

• 材料体系：Zn–Te（Ⅱ–Ⅵ族化合物半导体，近化学计量比 ZnTe）

• 能带特性：直接带隙材料，适合光电与发光相关应用

• 成膜优势：化合物蒸发有助于保持成分稳定，避免多源共蒸发偏析

• 供货形态：颗粒、块状、片状或定制形态，适配钼舟、钨舟及电子束坩埚

通过优化蒸发速率、基底温度及后续热处理条件，可获得致密、均匀且光学与电学性能稳定的 ZnTe 薄膜。

应用领域（Applications）

碲化锌蒸发材料在多个光电与半导体领域具有典型应用，包括：

• 光电与光学薄膜：可见光/近红外光学功能层

• Ⅱ–Ⅵ族半导体器件：发光、探测与基础半导体研究

• 异质结构与窗口层：与 CdTe、CdZnTe 等材料配合使用

• 红外与可见光器件：光学调制与响应薄膜

• 科研与实验室应用：能带结构、界面与缺陷工程研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：ZnTe 蒸发材料适合哪种沉积方式？
A：适用于热蒸发和电子束蒸发，电子束蒸发有利于功率与速率的精确控制。

Q2：ZnTe 薄膜的主要优势是什么？
A：直接带隙、良好的光学透明性以及稳定的成膜表现。

Q3：是否适合光学器件应用？
A：是的，ZnTe 常用于可见光与近红外光学薄膜。

Q4：化学计量比可以定制吗？
A：可以，可根据器件设计需求定制 Zn/Te 比例。

Q5：是否适合工业化量产？
A：已广泛用于科研与部分器件应用，具备成熟的工程基础。

Q6：膜层附着力如何？
A：在玻璃、Si、CdTe 等基底上可获得稳定附着。

Q7：是否可用于多层或异质结构？
A：可以，常作为窗口层或功能中间层使用。

Q8：科研中常见研究方向有哪些？
A：光电响应、能带工程、界面调控与缺陷优化研究。

包装与交付（Packaging）

所有碲化锌蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案，确保在运输与储存过程中保持材料纯度与成分稳定性。

结论（Conclusion）

碲化锌蒸发材料（ZnTe）凭借其直接带隙特性、优异的光学性能以及成熟稳定的成膜表现，在光电器件与光学薄膜领域持续发挥重要作用。对于需要实现高质量Ⅱ–Ⅵ族半导体薄膜、稳定光学响应与可靠工艺重复性的真空蒸发应用，ZnTe 是一类技术路径清晰、科研与工程价值兼具的关键蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com