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硼(Boron, B)是一种黑色或深灰色的高硬度非金属元素,具有超高熔点(约 2076 °C)、优异的化学稳定性和低密度结构。硼靶材凭借其出色的硬度、耐磨性、化学惰性以及良好的光学特性,被广泛用于防护涂层、光学薄膜、半导体以及先进陶瓷领域,是高性能薄膜制备中的重要材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度硼靶材(纯度 99.5%–99.99%),采用热压烧结(HP)、热等静压(HIP)或高纯压制成型生产工艺,成品具有高致密度、结构均匀、低孔隙率的特点。
硼靶材可制成 圆形、矩形、环形及异形靶材,可用于 直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统。
可根据应用需求提供 铜(Cu)、钛(Ti)背板 或 铟焊(In Bonded)结合,以提高散热效率与机械稳定性。
高熔点与高硬度,适用于耐磨防护膜;
极低密度,适合轻量化薄膜应用;
化学惰性强,适用于腐蚀性环境薄膜;
膜层光学性能稳定,适用于光学镀膜;
表面平整光洁,溅射过程稳定;
支持各种规格定制(Ø25–Ø300 mm,3–6 mm厚)。
高反射膜
红外吸收膜
防护膜层
光学过滤与结构膜
掺杂层(如B掺杂硅)
电极保护层
低介电常数薄膜(B基材料)
硬质防护涂层(如B-C体系)
高温抗腐蚀膜
航空航天表面强化膜
硼基陶瓷材料薄膜
中子吸收功能层(核能应用)
硼化物薄膜(如TiB₂、ZrB₂)
硼碳、硼氮复合功能膜
高温防护材料研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5% – 99.99% | 高纯度可减少颗粒与薄膜缺陷 |
| 直径 | Ø25–Ø300 mm(可定制) | 适配各类溅射腔体 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速率与靶材寿命 |
| 密度 | 2.30–2.35 g/cm³ | 致密性越高,薄膜一致性越好 |
| 制备工艺 | HP / CIP / HIP | 高致密度、低孔隙率 |
| 背板结合 | Cu / Ti / In Bonded | 提升散热与结构强度 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 硼(B) | 高硬度、轻量、化学稳定性强 | 防护膜、光学膜 |
| 二硼化钛(TiB₂) | 超高硬度、导电性好 | 工具涂层、耐磨膜 |
| 氮化硼(BN) | 高绝缘性、耐高温 | 绝缘膜、润滑膜 |
| 碳(C) | 适合DLC类薄膜 | 防护膜、摩擦膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 硼靶材适用于哪些溅射方式? | 适用于 DC 与 RF 磁控溅射。 |
| 薄膜表面硬度高吗? | 硼薄膜具有高硬度,常用于防护及耐磨层。 |
| 是否可以共溅射? | 可以,可与Ti、Zr、C、N等材料共溅射形成功能膜。 |
| 是否易碎? | 硼为脆性材料,运输与使用需避免撞击。 |
| 是否提供背板焊接? | 可提供Cu/Ti/In Bonded多种方案。 |
| 是否易氧化? | 硼具有一定化学稳定性,但建议真空密封保存。 |
| 可否定制异形靶材? | 可以,支持根据图纸加工任意形状。 |
所有硼靶材均采用:
真空密封包装
防静电袋与干燥处理
防震泡沫防护
出口级硬纸箱或木箱
硼靶材以其高硬度、轻质与优异的化学稳定性,在光学、半导体、耐磨防护和高温材料领域中具有广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度硼靶材,并可根据需求提供背板焊接方案,为高端薄膜制备提供可靠材料支持。
如需获取更多技术参数与最新报价,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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