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硼化镧（LaB）是一类稀土—硼系陶瓷化合物，常见形式为 LaB₆，具有极低的电子逸出功、高熔点、优异的热稳定性和化学稳定性，被广泛用于电子束阴极、热电子发射材料、高温涂层及功能薄膜应用。在磁控溅射沉积过程中，LaB 溅射靶材能够提供稳定的放电特性，并形成致密、均匀的功能薄膜，是材料研究与电子器件制备中的关键高性能靶材。
由于其优异的电子发射能力和抗腐蚀性能，LaB 在真空电子学、高端涂层及新材料研究领域具有不可替代的作用。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密LaB溅射靶材，满足实验室研究与工业化量产需求。
纯度：99.5%–99.9%（3N）
典型组成为：LaB₆（可提供其他成分比）
尺寸范围：直径 Φ25–300 mm
厚度范围：3–6 mm（可根据设备定制）
形状选项：圆形靶、矩形靶、阶梯靶等
制造工艺：热压（HP）、热等静压（HIP）、真空烧结
致密度：≥95% 理论密度，溅射稳定性极佳
背板结合：可选 Cu / Ti 背板 + 铟焊（Indium Bonding）
高热稳定性与高熔点（>2200°C）
低电子逸出功，常用于电子发射薄膜
硬度高、耐腐蚀性强
低蒸气压，适合高真空环境
成膜均匀性优良，稳定性强
硼化镧靶材在多个高端领域中发挥关键作用：
电子束阴极（E-beam cathodes）
LaB₆ 是经典的热电子材料，用于电子束蒸发源、显微镜电子枪等。
高温与耐腐蚀涂层
用于真空系统、高温部件、耐腐蚀薄膜。
光学与电子薄膜
包括吸收层、导电层、功能陶瓷薄膜。
新材料研发（Advanced Materials Research）
包括稀土硼化物体系、低维材料、界面功能膜研究。
高功率器件与真空电子器件
用于栅极、发射极等关键结构。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5%–99.9% | 纯度越高，薄膜缺陷越少 |
| 直径 | Φ25–300 mm | 适配主流溅射靶架 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射功率承载能力 |
| 致密度 | ≥95% TD | 提升薄膜致密性 |
| 电阻率 | 极低 | 适用于导电薄膜与电子发射用途 |
| 背板结合 | Cu / Ti / 铟焊 | 强化散热，提高使用寿命 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| LaB（LaB₆） | 低逸出功、高温稳定 | 热电子发射、E-beam 涂层 |
| CeB₆ | 类似 LaB₆，发射性能略不同 | 真空电子器件 |
| TiB₂ | 高硬度、导电陶瓷 | 防护膜、耐磨工程薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| LaB 靶材能用于 RF 与 DC 溅射吗？ | 是的，两者均兼容。 |
| LaB 是否易氧化？ | 高温下有一定敏感性，但常温短时间暴露无影响。 |
| 能否提供 LaB₆ 以外的比例？ | 可以定制不同 La:B 化学计量比。 |
| 是否适合长时间高功率溅射？ | 高致密 LaB 具有出色的耐热性，非常适合高功率应用。 |
| 是否可提供背板铟焊？ | 可提供 Cu/Ti 背板 + 铟焊服务。 |
| 能否用于电子束蒸发源？ | LaB₆ 是电子束阴极材料的优选之一。 |
| 是否可提供 ICP 检测报告？ | 可按需提供 ICP、密度、尺寸检测数据。 |
真空密封包装
干燥剂防潮处理
防震泡沫 + 出口级硬纸箱/木箱
每片靶材附唯一溯源码与质检记录
硼化镧靶材（LaB）凭借高熔点、低逸出功、优异稳定性和优良电子发射性能，是先进真空电子学、光电子薄膜、耐高温领域的重要功能材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制的 LaB 溅射靶材，为科研与产业薄膜制备提供可靠材料支持。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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