硼化铬靶材（CrB）

产品简介（Introduction）

硼化铬（CrB）是一种典型的金属硼化物材料，具有高硬度、优异的耐磨性、良好的热稳定性与电导率。其结构稳定、化学惰性强，在高温、高摩擦、腐蚀性环境中表现尤为突出。作为功能薄膜材料，CrB 常用于制备硬质涂层、耐腐蚀材料、扩散阻挡层及表面强化薄膜。

在磁控溅射过程中，CrB 靶材能形成致密、均匀、具有高附着力的 Cr–B 系薄膜，被广泛应用于模具加工、机械工程、航空航天、光学镀膜及半导体领域。

产品详情（Detailed Description）

科跃材料的 CrB 靶材采用高纯金属铬粉与硼粉，经真空固相反应、冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）烧结及精密加工制备而成，具有高致密度、高强度及良好的溅射稳定性。

可提供的靶材规格：

• 纯度：99.5% – 99.9%（2N5–3N）

• 尺寸范围：Ø25–300 mm；厚度 3–10 mm

• 密度：≥ 95% 理论密度

• 生产工艺：CIP、HP/HIP、真空固相反应、精密研磨

• 背板选择：Cu / Ti 背板，可铟焊或扩散焊

• 形状：圆形靶、方形靶、阶梯靶、多段靶

材料特性：

• 高硬度，适合制作耐磨薄膜

• 优异耐腐蚀性和化学稳定性

• 高温结构稳定，适合高热负载环境

• 粘附性好，薄膜结构均匀、缺陷率低

• 溅射过程稳定，不易产生颗粒脱落

应用领域（Applications）

CrB 溅射靶材广泛用于：

• 硬质涂层（Hard Coatings）

• 耐磨薄膜（Wear-Resistant Films）

• 扩散阻挡层（Diffusion Barrier Layers）

• 防腐保护膜（Corrosion-Resistant Coatings）

• 刀具与模具强化涂层

• 高温结构薄膜

• 航空航天与机械零部件保护层

• 光学与电子薄膜材料

CrB 结合硬度、耐磨性和良好电导率，特别适用于高载荷、强摩擦工况的强化薄膜。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有 CrB 靶材均：

• 真空密封包装

• 防震泡沫层保护

• 外部出口级木箱

• 具备唯一序列号及质检报告（ICP 杂质分析、密度、尺寸等）

确保产品在运输过程中保持无损和洁净。

结论（Conclusion）

硼化铬靶材（CrB）凭借其高硬度、优异耐磨性与出色的热稳定性，是制备工业硬质涂层和高性能功能薄膜的理想材料。科跃材料可根据用户需求提供多种纯度、尺寸和背板选择，适用于科研与工业量产。

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