硼化铪靶材（HfB / HfB₂）

产品简介（Introduction）

硼化铪（HfB₂）是一类超高温陶瓷材料（UHTC），以其 极高熔点（> 3200 ℃）、优异的抗氧化性、高硬度及良好导电性 而闻名。作为溅射靶材，HfB₂ 可沉积出致密、耐高温、耐腐蚀的功能薄膜，广泛应用于航空航天、超高温防护涂层、半导体元件、硬质涂层以及红外光学领域。

其强共价键结构（Hf–B）赋予薄膜卓越的机械强度和热稳定性，使 HfB₂ 靶材成为高端薄膜工程中不可替代的重要材料。

产品详情（Detailed Description）

● 纯度： 99.5% – 99.99%（可提供 3N–4N 级）
● 相态： HfB 或 HfB₂（HfB₂ 为工业中最常用）
● 尺寸范围： Ø25–300 mm（可按需定制方形/异形尺寸）
● 厚度： 2–6 mm 或按设备要求定制
● 致密度： ≥ 95% 理论密度
● 制造工艺：
– 真空热压烧结（Hot Pressing）
– 冷等静压（CIP）
– 热等静压（HIP）
– 精密机加工、磨削、倒角
● 背板结构： 铜背板（Cu）、钛背板（Ti）、铟焊（Indium Bonding）
● 外观： 深灰至黑色陶瓷表面，结构致密
● 适用工艺： DC / RF 溅射、离子束溅射、PVD 多层膜

HfB₂ 靶材具有极佳热冲击稳定性，可耐受高功率、高温的长时间沉积。

应用领域（Applications）

● 航空航天超高温涂层（UHTC Films）
适用于火箭喷管、热防护系统等 >2000 ℃ 环境。

● 硬质耐磨涂层（Hard Coatings）
用于刀具、模具、轴承等耐磨部件。

● 高温电子器件薄膜
HfB₂ 具备良好电导率与热稳定性，适用于高温环境下的电极层与阻挡层。

● 红外光学材料（IR Optical Films）
优秀的 IR 吸收性能，可用于光学窗口与防护层。

● 半导体器件结构
包括：
– 栅极材料
– 抗熔蚀电极
– 功率电子元件保护膜

● 复合多层膜结构
可与 ZrB₂、HfC、TiN、TaB₂ 等共同堆叠用于增强整体耐热与耐腐蚀能力。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

● 靶材单片真空密封、防静电包装
● 泡棉缓冲 + 木箱出口包装
● 质量检测报告（纯度、密度、尺寸）
● 批次与序列号可追溯系统

结论（Conclusion）

硼化铪靶材（HfB / HfB₂）凭借其卓越的耐高温性、硬度和化学稳定性，是航空航天、先进制造和高端电子领域不可或缺的薄膜材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、可定制的硼化铪靶材，满足从科研到产业化的全流程需求。

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