硼化铝靶材（AlB）

产品简介（Introduction）

硼化铝（AlB）是一类由铝与硼形成的金属间化合物材料，具有轻质高强度、优异的耐高温性能、良好的化学稳定性以及可调的电学特性。作为溅射靶材，AlB 可用于制备致密、稳定、均匀的功能薄膜，适用于电子器件、耐磨涂层、结构强化层以及先进材料研究。

AlB 溅射靶材具有高纯度、低氧含量、良好的溅射速率以及较低的颗粒（Low Particle）生成特性，是科研与工程制程中的常用非氧化物薄膜材料之一。

产品详情（Detailed Description）

硼化铝靶材通常采用真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（HP）或热等静压（HIP）工艺制备，以获取高致密性与稳定的微观结构。

● 化学式： AlB、AlB₂（最常见结构）
● 纯度： 99%–99.9%（2N–3N）
● 密度： ≥90–95% 理论密度
● 尺寸： Ø25–Ø300 mm 圆靶、矩形靶可定制
● 厚度： 3–6 mm（可按需调整）
● 工艺： Vacuum Sintering / Hot Pressing / HIP
● 背板绑定（可选）： Cu / Ti / Mo 背板或铟焊接
● 外观： 银灰色至深灰色致密化合物靶材表面

高致密 AlB 可显著降低针孔、微裂纹与颗粒，提高膜层均匀性与物理性能。

应用领域（Applications）

AlB 靶材在薄膜技术、表面工程和功能材料研究中具有广泛用途：

● 耐磨与保护涂层

• 表面强化层

• 机械部件抗磨薄膜

• 抗腐蚀薄膜

● 金属间化合物薄膜

• Al–B 系功能薄膜

• 高温稳定薄膜

• 超轻结构功能涂层

● 导电 / 电阻薄膜

• 调控薄膜导电性

• 功能电极层材料

● 先进材料研究

• B 与 Al 系新型结构探索

• 复合材料界面层设计

• AlB₂ 晶体结构相关的材料研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有 AlB 靶材均采用：

• 真空密封包装

• 防静电与防震缓冲材料

• 出口级加固运输包装

并附带唯一批次号、纯度与成分检测报告，确保品质可追踪。

结论（Conclusion）

硼化铝靶材（AlB）凭借其轻质、高温稳定性与稳定的溅射行为，是多种先进薄膜与功能材料研究的重要选择。高致密、高纯度 AlB 靶材可显著提升薄膜质量、均匀性及耐用性，是科研与工程制造中的优质材料。

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