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硼化铝(AlB₂)是一种典型的金属硼化物材料,具有 较高的硬度、良好的热稳定性、优异的化学惰性以及较低密度。AlB₂ 薄膜在耐磨涂层、功能保护层、电子与能源材料研究等领域具有潜在应用价值,尤其适合对轻量化与耐高温性能有要求的薄膜结构。
作为磁控溅射靶材,AlB₂ 可用于沉积 致密、结构稳定的硼化物薄膜,在科研与功能薄膜开发中被广泛采用。
化学式: AlB₂
材料类型: 金属硼化物
纯度: 99.5% – 99.99%
外观: 深灰色至黑灰色,致密陶瓷金属质感
尺寸范围: Ø25–300 mm(支持方形、矩形、异形定制)
厚度: 2–6 mm(可定制)
致密度: ≥95% 理论密度
制造工艺:
高纯铝与硼原料反应合成
冷等静压(CIP)或热压烧结(HP)
真空 / 惰性气氛烧结
精密 CNC 加工、倒角与表面清洗
背板选项: Cu / Ti / 铟焊(Indium Bonding)
适用工艺: RF 磁控溅射(推荐)、离子束溅射、PVD 功能薄膜系统
说明:AlB₂ 属于弱导电或半导体特性材料,实际溅射方式取决于靶材致密度与电导率,科研应用中多采用 RF 模式。
耐磨与防护涂层(Wear & Protective Coatings)
用于提升基材表面的硬度、耐磨性与抗腐蚀能力。
高温功能薄膜
适用于高温环境下的结构或保护薄膜研究。
电子与功能材料研究
用于硼化物导电/半导体特性相关研究。
轻量化薄膜结构
AlB₂ 低密度特性适合轻量化功能涂层设计。
科研与教学实验
硼化物薄膜制备与材料性能研究。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5%–99.99% | 影响薄膜结构与稳定性 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 2–6 mm | 可按溅射寿命定制 |
| 致密度 | ≥95% | 减少颗粒与溅射异常 |
| 电学性质 | 弱导电 / 半导体 | 通常采用 RF |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止开裂 |
| 材料 | 特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| AlB₂ | 轻量、高硬度 | 功能/防护薄膜 |
| TiB₂ | 极高硬度、导电性好 | 硬质涂层 |
| ZrB₂ | 超高熔点 | 高温防护 |
| AlN | 绝缘性好 | 介电与热管理 |
AlB₂ 靶材适合 DC 还是 RF?
通常推荐 RF 溅射。
AlB₂ 是否容易氧化?
表面在空气中可能轻微氧化,建议真空密封保存。
是否支持小尺寸科研靶材?
支持 ≤1 英寸规格。
是否建议使用背板?
中高功率或长时间沉积建议使用。
单片真空密封包装
防静电袋 + 防震泡棉
出口级木箱
提供纯度、尺寸与批次追溯文件
硼化铝靶材(AlB₂)凭借其轻量化特性、良好的热稳定性和耐磨性能,在功能薄膜与防护涂层领域具有独特优势。苏州科跃材料科技有限公司可提供 高纯度、高致密度、全规格定制的 AlB₂ 溅射靶材,支持科研与前沿应用开发。
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