硼化铈靶材(CeB)

产品简介(Introduction)

硼化铈(CeB)是一类稀土硼化物材料,常见形式为 CeB₆,以其低电子逸出功、高熔点、高硬度和优异化学稳定性而著称。与 LaB₆ 类似,CeB₆ 是高性能热电子发射材料之一,在真空电子学、电子束技术、高温功能涂层和先进薄膜研究中具有重要价值。

作为溅射靶材,CeB 具有良好的放电稳定性和成膜一致性,可制备出致密均匀、稳定性极高的功能陶瓷薄膜,适用于研究级与工业级薄膜制备工艺。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供高致密、高纯度、可定制的 CeB 溅射靶材,满足不同真空镀膜系统的应用需求。

● 常规生产规格

  • 纯度:99.5%–99.9%(3N)

  • 组成:CeB₆(可按需提供不同 B 比例)

  • 尺寸范围:直径 Φ25–300 mm

  • 厚度:3–6 mm(可定制)

  • 形状:圆靶、矩形靶、阶梯靶、异形靶

  • 制造工艺:热压(HP)、热等静压(HIP)、真空烧结

  • 致密度:≥95% TD(理论密度),低颗粒、低针孔

  • 背板结合:可选 Cu / Ti 背板,支持铟焊(Indium Bonding)

● 材料特点

  • 极低电子逸出功,适用于电子发射薄膜

  • 熔点高(>2200°C),耐高温性能优秀

  • 硬度大、耐磨损、耐腐蚀

  • 低蒸汽压,适用于真空环境

  • 薄膜结构均匀,适用于高精度功能涂层


应用领域(Applications)

硼化铈(CeB)溅射靶材在以下高端领域中广泛应用:

  • 热电子发射材料(Thermionic Emission)
    用于电子束蒸发源、电子枪、SEM/TEM 发射极。

  • 高温防护涂层
    适合真空炉、高温组件、耐腐蚀薄膜。

  • 电子与光电功能薄膜
    包括导电陶瓷膜、吸收膜、界面功能层等。

  • 真空电子器件(Vacuum Electronics)
    用于微波管、X 射线源、放大器件。

  • 稀土硼化物材料研究
    包括电子结构、低维材料、强关联体系研究。


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99.5%–99.9% 纯度提升可减少薄膜缺陷
成分 CeB₆ 或可定制 可按应用调整 B 含量
尺寸 Φ25–300 mm 兼容主流溅射设备
厚度 3–6 mm 影响靶材寿命与溅射稳定性
致密度 ≥95% TD 获得低颗粒、高致密薄膜
背板 Cu/Ti + 铟焊 强化散热能力,提升稳定性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 典型应用
CeB(CeB₆) 高发射能力、耐高温 电子束阴极、真空电子学
LaB₆ 超低逸出功,发射能力更高 SEM/TEM 发射源、E-beam
TiB₂ 高硬度导电陶瓷 耐磨涂层、工程薄膜

常见问题(FAQ)

问题 答案
CeB 靶材能用于 RF 与 DC 溅射吗? 可以,两种模式均兼容。
CeB 是否容易氧化? 常温稳定,建议真空密封保存。
是否可提供定制成分? 可以,根据研究需求调整 Ce:B 比例。
是否适合高功率长时溅射? CeB₆ 具极高耐热性,非常适合高功率工况。
是否提供 Cu/Ti 背板和铟焊? 可以按设备需求配置。
是否可用于电子束蒸发源? CeB₆ 是热电子阴极材料之一,可应用于 E-beam 系统。
是否可提供检测报告? 可按需提供 ICP、密度、物性等检测数据。

包装与交付(Packaging)

  • 真空密封袋包装

  • 干燥剂防潮

  • 防震泡沫保护

  • 出口级硬纸箱或木箱

  • 每片靶材附唯一追踪码与质检记录


结论(Conclusion)

硼化铈靶材(CeB)具有优异的电子发射能力、耐高温性和化学稳定性,是真空电子学、热电子发射、光电薄膜和高温工程涂层中的关键材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密、可定制的 CeB 溅射靶材,为科研与工业薄膜制备提供稳定可靠的材料支持。

如需报价与技术信息,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com