硼化铁靶材(FeB)

硼化铁靶材(FeB)

产品简介(Introduction)

硼化铁(FeB)是一种由铁与硼形成的金属间化合物材料,具有高硬度、优异的耐磨性、良好的化学稳定性和较高的熔点。FeB 薄膜在耐磨涂层、抗腐蚀保护层、磁性薄膜以及表面工程领域具有应用价值。作为溅射靶材,FeB 可用于制备均匀致密的功能薄膜,适合科研、表面改性以及先进制造工艺。

高纯 FeB 溅射靶材具有良好的溅射稳定性、低颗粒生成(Low Particle)和出色的膜层附着力,适用于直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统。


产品详情(Detailed Description)

硼化铁靶材通常采用真空烧结、热压(Hot Pressing)或热等静压(HIP)工艺制备,以获得高致密度与均匀的微观结构。

化学式: FeB、Fe₂B(可根据需求定制)
纯度: 99%–99.9%(2N–3N)
密度: ≥90–95% 理论密度
尺寸: Ø25–Ø300 mm,矩形靶可按需定制
厚度: 3–6 mm(亦可定制特殊尺寸)
工艺: Vacuum Sintering / Hot Pressing / HIP
背板(可选): 铜背板、钛背板、铟焊接
外观: 深灰至黑色致密金属间化合物表面

高致密 FeB 靶材可有效降低膜层颗粒、提升成膜均匀性与薄膜耐磨性。


应用领域(Applications)

硼化铁薄膜因其高硬度、高耐磨性和稳定的化学性能,被广泛应用于:

● 耐磨与保护涂层

  • 刀具与模具表面保护

  • 高摩擦环境下的耐磨薄膜

  • 防腐蚀结构材料涂层

● 表面工程

  • 金属基复合材料涂层

  • 耐蚀增强薄膜

  • 工业零件强化处理

● 磁性材料与薄膜

FeB 与 Fe₂B 可用于:

  • 软磁薄膜研究

  • 结构磁性复合薄膜

  • 功能性磁层与界面层

● 先进材料研究

  • 金属间化合物薄膜

  • Fe–B 相图研究

  • 共溅射 Fe、B、FeB 体系功能层


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 说明
纯度 99%–99.9% 满足大多数功能薄膜要求
密度 ≥90–95% TD 高致密性提升薄膜平整性
尺寸 Ø25–Ø300 mm 适用于科研与量产设备
厚度 3–6 mm 决定使用寿命与热稳定性
可选相结构 FeB / Fe₂B 不同相结构用于不同薄膜特性
背板选项 Cu / Ti / Indium 增强散热与结构完整性

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 应用
FeB 更高硬度、优良耐磨性 工具耐磨涂层、功能薄膜
Fe₂B 更高脆性但导磁性更佳 磁性薄膜与硬质涂层
TiB₂ 超高硬度、耐腐蚀 刀具与航空防护涂层
CrB₂ 良好耐磨与抗氧化性 高温防护薄膜

常见问题(FAQ)

问题 答案
FeB 靶材适用于 DC 或 RF? 两者均可,FeB 有一定导电性。
是否可以定制 Fe:B 比例? 可以,可按需求调控化学计量比。
FeB 薄膜是否耐腐蚀? 具有良好的抗腐蚀性与抗磨损性。
溅射需要基底加热吗? 适当加热可提升薄膜致密度与附着力。
是否适合共溅射? 适合,可与 Fe、B、TiB₂ 等靶材组合。
靶材易开裂吗? 采用 Cu/Ti 背板可有效减少热应力风险。

包装与交付(Packaging)

● 真空密封包装
● 四周防震泡棉保护
● 出口级抗冲击木箱包装
● 每件产品附唯一批次号与质检报告

确保靶材在运输与长期储存中不受污染或损伤。


结论(Conclusion)

硼化铁靶材(FeB)凭借其耐磨、耐腐蚀、硬度高以及稳定的溅射成膜特性,在表面工程、磁性材料研究和功能薄膜领域具有广泛应用。高致密高纯 FeB 靶材可显著提升膜层稳定性,是科研与工业用途的重要材料。

如需技术参数、定制尺寸或报价,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com