硼化钼靶材（MoB）

产品简介（Introduction）

硼化钼（MoB）是一类重要的金属硼化物材料，兼具金属的高导电性与陶瓷材料的高硬度、耐磨性和高熔点特性。MoB 具有优异的热稳定性、耐腐蚀性和机械强度，是硬质涂层、耐磨薄膜、阻挡层和高温结构薄膜的重要材料。

作为磁控溅射靶材，MoB 在 PVD 薄膜沉积中表现出良好的溅射稳定性，可形成致密、均匀、附着力强的功能涂层，在半导体、模具加工、光学镀膜、航空航天和高级工程材料领域有广泛应用。

产品详情（Detailed Description）

硼化钼靶材由高纯金属钼粉与硼粉在真空环境下固相反应，经冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）烧结及精密加工制备而成，具有高致密度、低杂质和优异的微观结构稳定性。

可提供参数范围：

• 纯度：99.5% – 99.9%（2N5 – 3N）

• 尺寸：Ø25–300 mm；厚度 3–10 mm，可按图纸定制

• 密度：≥ 95% 理论密度

• 制造工艺：CIP、HP/HIP、真空烧结、精密研磨

• 背板选择：铜（Cu）或钛（Ti）背板；可提供铟焊或扩散焊

• 形状支持：圆靶、方靶、阶梯靶、多段靶

材料特性：

• 高硬度与耐磨性，适合作为耐磨涂层材料

• 机械强度高，结构稳定，不易开裂

• 高致密度降低颗粒掉落风险

• 溅射稳定性良好，可获得均匀薄膜

• 具有优异的耐腐蚀性能和耐高温性

应用领域（Applications）

MoB 溅射靶材制备的薄膜常用于以下领域：

• 硬质涂层（Hard Coatings）

• 耐磨薄膜（Wear-Resistant Coatings）

• 高温防护涂层（High-Temperature Protective Films）

• 扩散阻挡层（Diffusion Barrier Films）

• 模具与切削工具强化涂层

• 结构陶瓷薄膜（Ceramic Composite Films）

• 半导体器件保护层

• 光学与机械功能薄膜

MoB 的硬度与耐腐蚀性使其特别适用于高摩擦环境以及高温操作条件。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封

• 防震泡沫保护

• 外层为出口级坚固木箱

• 附带唯一标识编号与质检报告（纯度、尺寸、密度等）

确保靶材在运输与存储过程中保持洁净与完好。

结论（Conclusion）

硼化钼靶材（MoB）凭借其高硬度、强耐磨性及高温稳定性，是制备工程级硬质涂层与功能薄膜的理想材料。科跃材料可提供多种纯度、尺寸与定制服务，满足科研到工业化的不同需求。

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