硼化钨镍靶材（WNiB）

产品简介（Introduction）

硼化钨镍（WNiB）是一种由钨（W）、镍（Ni）与硼（B）组成的三元高性能金属硼化物材料，兼具金属强度、陶瓷硬度、耐高温及耐腐蚀特性。其复合结构使其既具备高硬度与耐磨性，又具有良好的韧性与适中的电导率，是先进耐磨薄膜、硬质涂层、电学功能薄膜与高温工程材料研发中的重要化合物。

硼化钨镍靶材（WNiB Sputtering Target）常用于磁控溅射制备致密、高附着力与耐腐蚀的薄膜，在航空航天、工具涂层、能源设备与硬质保护膜领域具有广泛应用价值。

产品详情（Detailed Description）

WNiB 靶材大多通过以下工艺制备：

• 固相反应烧结（Solid-State Reaction）

• 热压烧结（Hot Pressing, HP）

• 热等静压（Hot Isostatic Pressing, HIP）

• 冷等静压（CIP）+ 高温致密化工艺

典型靶材参数：

• 纯度：99% – 99.9%（可定制更高纯度）

• 化学组成：W–Ni–B（比例可按应用需求设计）

• 致密度：≥ 95% 理论密度

• 尺寸：直径 25–300 mm，可定制矩形靶材

• 厚度：3–6 mm（可按设备要求调整）

• 色泽：深灰色或灰黑色，致密细腻

• 结合背板：Cu、Ti 或铟焊（In bonding）

材料特性：

• 高硬度、耐磨损

• 高熔点与优异热稳定性

• 较好的抗腐蚀性

• 可通过成分调整优化膜层韧性或导电性

应用领域（Applications）

● 硬质与耐磨薄膜（Hard Coatings）

WNiB 适用于制备高机械强度与高硬度的保护膜：

• 切削工具表面强化

• 高摩擦环境下的耐磨结构

• 航空结构部件表面保护

薄膜具备极高耐磨性、抗剥落性能。

● 高温保护膜（High-Temperature Films）

凭借其高熔点与抗氧化性能，WNiB 可用于：

• 涡轮/燃烧系统部件保护

• 高温传感器保护膜

• 高温电子器件

● 耐腐蚀涂层（Corrosion-Resistant Films）

WNiB 的金属硼化物结构能提供：

• 强抗化学攻击能力

• 良好防腐与高温抗氧化性能

适用于严苛化学环境。

● 电学功能薄膜（Conductive or Semi-Conductive Films）

WNiB 具有适中导电性，可用于：

• 金属化中间层

• 电极增强层

• 功能复合薄膜结构

● 材料科学研究（Research Applications）

用于研究：

• 多相金属硼化物系材料

• 硬质薄膜的微观结构演变

• 耐磨机制与成分调控效果

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封、防氧化包装

• 多层防震保护

• 防静电袋封装

• 出口级木箱运输

• 附唯一序列号与检测报告（纯度、尺寸、密度）

确保靶材在运输与储存期间保持洁净与完好。

结论（Conclusion）

硼化钨镍靶材（WNiB）兼具高硬度、良好韧性、耐腐蚀、耐高温与优良薄膜成膜性能，是高端硬质涂层、耐磨薄膜、高温电子设备及材料科研中的优选材料。使用高致密度、高纯度的 WNiB 靶材可有效提升膜层性能与稳定性。

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