硼化钒靶材（VB）

产品简介（Introduction）

硼化钒（VB）靶材是一类高熔点、超硬度、化学稳定性极佳的金属硼化物靶材，在高耐磨薄膜、耐腐蚀涂层、半导体工艺、光电设备和高温环境应用中具有重要价值。
VB 具有强金属—共价键特征，使其在薄膜中表现出优异的抗磨损性能、出色的硬度、良好的导电性以及优异的热稳定性，是机械零部件涂层、光学镀膜和电子领域中常用的功能性材料靶材。

主要优势包括：

• 极高硬度与耐磨性，适合构建超硬薄膜；

• 化学惰性强，具备良好耐腐蚀性；

• 热稳定性高，在高温沉积中仍保持完整；

• 薄膜致密度高、附着力好，适用于高功率溅射工艺。

产品详情（Detailed Description）

我司提供 99.5%–99.9% 高纯硼化钒靶材，采用真空烧结、热压烧结及 HIP（热等静压）等工艺制备，以确保材料致密度高、晶粒细小均匀，满足工业镀膜与科研级薄膜制备需求。

● 常见规格

• 纯度： 99.5%（2N5）– 99.9%（3N）

• 尺寸范围： Ø25–300 mm（可定制）

• 厚度： 3–6 mm

• 密度： ≥95% 理论密度（TD）

• 工艺： 真空烧结、热压、HIP 加致密

• 背板： 可选 Cu / Ti / In bonding（增强散热与稳定性）

这些工艺参数有助于：

• 提升薄膜硬度和耐磨性；

• 改善膜层均匀性与致密度；

• 降低靶材在高功率溅射下的裂纹风险；

• 提高使用寿命并减少颗粒释放。

应用领域（Applications）

● 超硬与耐磨薄膜

• 刀具防磨涂层

• 精密机械零件表面保护膜

• 高负载摩擦学薄膜

● 光学与红外涂层

• 具有高稳定性与吸收特性的功能膜层

• 抗腐蚀光学保护膜

● 半导体与电子应用

• 电阻薄膜

• 结构保护层

• 高温电子薄膜材料

● 能源与航空航天领域

• 极端环境保护膜

• 高温结构薄膜

● 科研应用

• 金属硼化物体系研究

• 多层复合功能膜研究

• 高温、耐腐蚀材料开发

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封包装

• 防震泡沫保护

• 出口级木箱

• 随附检测报告与唯一追溯编码

确保靶材在运输中保持洁净与完整。

结论（Conclusion）

硼化钒靶材（VB）以其超硬、耐磨、稳定性高等特性，在刀具涂层、光电薄膜、半导体结构保护层与高温应用中具有重要地位。其高性能薄膜使其成为工业镀膜与科研开发中的关键材料。

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