硫化镍靶材（NiS）

产品简介（Introduction）

硫化镍（NiS）是一种重要的过渡金属硫化物材料，具有优异的电化学活性、稳定的化学结构以及良好的光学与电学特性。作为一种具有半导体行为和金属性综合特质的功能性材料，NiS 在能源材料、光电器件、催化薄膜和新型电子结构中被广泛研究。

硫化镍靶材（NiS Sputtering Target）可通过磁控溅射沉积形成致密均匀的 NiS 薄膜，应用于传感器、光吸收层、能量转换装置、储能器件以及多层复合功能薄膜，是科研与工业薄膜制备的重要材料。

产品详情（Detailed Description）

硫化镍靶材一般采用以下工艺制备：

• 固相反应烧结（SSR）

• 真空烧结（Vacuum Sintering）

• 热压烧结（Hot Pressing，HP）

• 冷等静压（CIP）+ 高温固相反应

典型产品参数：

• 纯度：99.9%（3N）

• 化学组成：Ni:S≈1:1，可根据相结构提供 NiS、NiS₁₊ₓ 等不同相型

• 晶体结构：六方 NiS（低温）、金属相 NiS（高温）

• 致密度：≥95% 理论密度

• 颜色：灰黑色

• 尺寸：直径 25–300 mm 或矩形靶材

• 厚度：3–6 mm，可按设备需求定制

• 背板结合（可选）：Cu、Ti 或 Indium bonding

性能特点：

• 高化学稳定性

• 导电性可调

• 良好的薄膜成核性

• 高致密度带来更低颗粒率

• 可用于 RF、DC 和脉冲 DC 溅射

应用领域（Applications）

● 能源材料（Energy Materials）

NiS 作为重要的过渡金属硫化物，常用于：

• 电池电极薄膜（超级电容器、Li-S、Na-ion）

• 催化薄膜（如 HER/氧化还原反应薄膜）

• 储能与能量转换系统

其良好的电子/离子传导性适用于高比容量与高活性薄膜结构。

● 光电薄膜（Optoelectronics）

NiS 薄膜可用于：

• 太阳能电池吸收层

• 近红外吸收材料

• 光探测器

• 可调光电子结构

其强吸光性与可调带隙使其成为光电结构的重要材料。

● 气体/化学传感器（Sensors）

NiS 对某些气体具有较强反应性与电阻变化特性，可用于：

• 气敏薄膜

• 化学检测薄膜

• 环境监测器件

● 电子与功能薄膜（Electronic Films）

作为镍基功能膜，NiS 可应用于：

• 金属化层或界面层

• 电学调控结构

• 多层堆叠薄膜功能结构

● 科研用途（Research Applications）

适用于：

• 过渡金属硫化物体系研究

• 薄膜电化学行为研究

• 界面工程与多物理耦合研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封、防氧化铝塑袋

• 防静电袋封装

• 多层防震缓冲材料

• 出口级木箱固定

• 每片靶材附质量检测报告与唯一追踪编号

确保运输过程中的完整性与靶材洁净度。

结论（Conclusion）

硫化镍靶材（NiS）是一种兼具半导体、电化学活性与光学吸收特性的关键功能薄膜材料，广泛用于能源、光电、传感器与多层结构研究。高纯度、高致密度的 NiS 靶材能够显著提升薄膜性能，是科研与工程应用中不可或缺的材料选择。

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