硫化锗磷靶材（GePS）

产品简介（Introduction）

硫化锗磷（GePS）是一类由锗（Ge）、磷（P）与硫（S）组成的多组元硫化物材料，结合了 Ge–S 体系的成膜性与 P–S 体系的离子迁移特性，同时兼具轻元素结构、可调带隙、优良的电化学稳定性与成膜均匀性。GePS 在 固态电解质、电极界面工程、光学薄膜、电化学能源材料 等领域具有较高研究价值。

硫化锗磷靶材（GePS Sputtering Target）适用于磁控溅射沉积 GePS 功能薄膜，可获得均匀、致密、化学计量稳定的薄膜层，特别适用于固态电池与新型储能体系的界面研究。

产品详情（Detailed Description）

GePS 靶材通常采用以下工艺制备：

• Ge、P、S 高纯原料密闭固相合成（Sealed Ampoule Reaction）

• 固相反应烧结（Solid-State Reaction）

• 均匀熔融–淬火玻璃化（Melt-Quench）

• CIP 冷等静压成型 + 高温致密化（HP / Sintering）

典型规格：

• 纯度：99.9% – 99.99%（3N–4N）

• 化学计量比：Ge:P:S = 1:x:y（可按项目需求定制）

• 外观：黑灰至深灰色硫化物陶瓷外观

• 致密度：≥94–97% TD

• 尺寸：Ø25–Ø300 mm，可定制矩形靶材

• 厚度：3–6 mm

• 背板（可选）：Cu / Ti / Mo / In bonding

材料优势：

• 成分均匀，适用于精确薄膜成分控制

• 可形成非晶或微晶结构薄膜

• 与固态电解质体系兼容性高

• 低颗粒溅射，薄膜表面平滑

• 适合低温与中温沉积工艺

应用领域（Applications）

● 固态电池与电解质薄膜（Solid-State Electrolyte Films）

GePS 属于多组元 P–S–Ge 硫化体系，可用于：

• 固态电池界面调控层

• 离子导电薄膜

• P–S–Ge 复合电解质研究

• 降低界面阻抗的过渡层（Buffer Layer）

与 Li₂S、P₂S₅、GeS₂ 类材料可形成兼容界面。

● 电极界面工程（Electrode Interface Engineering）

由于其化学稳定性与成膜均匀性，GePS 可应用于：

• 电极保护层

• 固态电池阴极包覆

• 电极–电解质界面稳定结构

• 电化学应力缓冲层

有效抑制副反应与界面分解。

● 光电薄膜（Optoelectronic Films）

GePS 可作为轻元素硫化物材料，用于：

• 光吸收薄膜

• 红外响应结构

• 光敏层

• 功能光学界面涂层

具有可调带隙、适合设计复合光电结构的优势。

● 多组元硫化物功能材料（Multi-Component Sulfide Materials）

GePS 常用于研究：

• 非晶硫化物结构与网络形成机制

• 硫化物玻璃薄膜

• 多相复合材料

• 离子/电子混合导体结构设计

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 铝塑真空密封防氧化

• 防静电袋双层包装

• 泡棉与加固外箱多层防震

• 随货附 ICP、XRD、密度与外观检测报告

结论（Conclusion）

硫化锗磷靶材（GePS）凭借其良好的成膜性、可调电化学稳定性以及对固态电池体系的兼容性，是固态电解质、光电薄膜、界面工程与功能材料研发中的重要材料。高致密、高纯度 GePS 靶材可显著提升薄膜均匀性，是科研与产业应用的理想选择。

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