硫化铬靶材（CrS）

产品简介（Introduction）

硫化铬（CrS）是一种过渡金属硫化物材料，具有优良的化学稳定性、耐腐蚀性、热稳定性以及可调的光学与电学特性。CrS 作为功能薄膜材料，在光学镀膜、耐磨防护层、润滑薄膜、半导体界面层及先进材料研究中具有重要应用价值。

高纯 CrS 溅射靶材拥有低杂质含量、稳定的溅射速率、低颗粒生成（Low Particle）与良好的薄膜均匀性，非常适合用于科研级磁控溅射、真空镀膜设备及工业级功能薄膜制备。

产品详情（Detailed Description）

CrS 溅射靶材通常采用真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（HP）或热等静压（HIP）工艺制备，以确保材料具有高致密度与均匀化合物结构。

● 化学式： CrS
● 可能晶型： 六方或立方型（视配比与工艺而定）
● 纯度： 99%–99.9%（2N–3N）
● 密度： ≥90–95% 理论密度
● 尺寸： Ø25–Ø300 mm 或定制矩形靶
● 厚度： 3–6 mm（可定制更薄或更厚）
● 制造工艺： Vacuum Sintering / HP / HIP
● 背板选项： Cu / Ti / Mo 背板，支持铟焊接
● 外观： 深灰或黑色致密化合物表面

高致密 CrS 靶材能有效减少针孔裂纹与颗粒，提升薄膜性能与一致性。

应用领域（Applications）

硫化铬薄膜具有耐腐蚀、耐磨损、稳定性高等特性，在多种领域中有实际应用：

● 耐磨防护涂层

• 高摩擦部件防护层

• 工具和模具表面强化

• 抗腐蚀功能涂层

● 固体润滑薄膜

• CrS 具有良好低摩擦性能

• 用于真空环境和高温工况的润滑涂层

• 类似 MoS₂、WS₂ 的功能替代材料

● 半导体与电子薄膜

• 功能界面层

• 电极缓冲层

• Cr–S 系半导体结构研究

● 光学薄膜

• 近红外吸收薄膜

• 多层干涉结构中的吸收/调控层

• 光学保护涂层

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封袋包装

• 干燥剂防潮保护

• 四周防震泡棉

• 出口级抗冲击木箱

• 每片靶材附 COA 与批号追踪

确保 CrS 靶材在运输与储存过程中维持最佳状态。

结论（Conclusion）

硫化铬靶材（CrS）凭借其优异的耐腐蚀性、热稳定性与功能薄膜性能，在耐磨涂层、固体润滑、光学薄膜和半导体工艺中具有重要价值。高纯、高致密 CrS 靶材可显著提升薄膜质量，是科研和工业溅射应用的理想材料。

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