硫化铁靶材(FeS)

产品简介(Introduction)

硫化铁(FeS)是一类重要的金属硫族化物材料,兼具金属性、电化学活性与半导体行为。FeS 在薄膜领域被广泛用于能量存储材料、光电薄膜、红外吸收层、催化材料以及磁性功能薄膜。其化学稳定性良好、成本低、可调导电性强,使其成为科研与工业领域非常具有吸引力的靶材材料。

作为溅射靶材,FeS 能在磁控溅射工艺中形成结构均匀、组成稳定、附着力强的高质量薄膜,适用于多种应用方向,包括电极薄膜、光吸收膜、催化层以及多层复合结构薄膜。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯、高致密度 FeS 溅射靶材,支持科研级与产业级精密薄膜制备。

● 常规规格

  • 纯度:99.9%(3N)–99.99%(4N)

  • 尺寸范围:Φ25–300 mm(支持定制)

  • 厚度:3–6 mm

  • 形状:圆形靶、矩形靶、阶梯靶、异形靶

  • 制造工艺:真空烧结(VS)、热压(HP)、CIP/HIP

  • 致密度:≥95% 理论密度

  • 背板结合:可提供 Cu / Ti 背板及铟焊(Indium Bonding)

● 材料特点

  • 良好的电化学活性,用于电极膜

  • 可调导电性和磁性

  • 成膜均匀性强,稳定性高

  • 薄膜化学结构可通过工艺轻松调控

  • 适用于复合结构薄膜的共溅射生产


应用领域(Applications)

硫化铁(FeS)溅射靶材可用于:

1. 能源材料(Energy Materials)

  • 锂离子电池 / 钠离子电池电极薄膜

  • 固态电池界面层

  • 电化学催化薄膜(HER / OER)

2. 光电器件(Optoelectronics)

  • 光吸收层薄膜

  • 红外薄膜结构

  • 光催化材料

3. 磁性薄膜(Magnetic Films)

  • 可用于铁基磁性功能层

  • 电阻变化型(RRAM)薄膜研究

4. 防护膜与结构膜(Protective Films)

  • 抗腐蚀薄膜

  • 高温功能膜

5. 基础材料科学研究

  • Fe–S 系相图、电子结构、晶体结构材料研究

  • 多元硫化物复合薄膜的结构调控


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 / 典型值 说明
纯度 3N–4N 薄膜缺陷率随纯度提高而降低
直径 25–300 mm 适配不同溅射腔体
厚度 3–6 mm 影响溅射速率与热管理
致密度 ≥95% TD 高致密可提升薄膜均匀性
背板 Cu / Ti / Indium Bonding 用于散热及稳定靶材结构

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 特点 应用
FeS 电化学活性、磁性可调 电极薄膜、催化层
FeSe 超导材料、低维结构研究热点 薄膜超导研究
FeTe 具有特殊磁性与相变特性 电子结构研究

常见问题(FAQ)

问题 答案
FeS 是否适合 RF 与 DC 溅射? 是的,两者均兼容。
FeS 会氧化吗? 易轻微氧化,建议真空密封保存。
可否调整 Fe:S 比例? 可以按实验需求定制成分。
FeS 薄膜是否适用于电池研究? 是的,FeS 常用于电极薄膜与界面研究。
是否提供铟焊背板? 可以提供 Cu/Ti 背板及专业铟焊。
是否提供 ICP、密度等检测报告? 可根据需求附带全套检测结果。

包装与交付(Packaging)

  • 真空密封包装

  • 干燥剂保护

  • 防震泡沫固定

  • 出口级纸箱或木箱

  • 每片靶材附唯一追踪标签与质检记录


结论(Conclusion)

硫化铁靶材(FeS)因其低成本、高电化学活性、可调磁性和良好薄膜稳定性,已成为能源薄膜、光电薄膜、催化膜及新型功能薄膜研究的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 FeS 溅射靶材,为科研与产业用户提供可靠的薄膜材料方案。

如需报价或技术资料,请联系:
📧 sales@keyuematerials.com