硅铟靶材（SiIn）

产品简介（Introduction）

硅铟靶材（SiIn）由硅（Si）与铟（In）组成，是一种兼具半导体特性、优异附着性及可调整光电性能的复合金属靶材。Si–In 体系在薄膜导电性、折射率调节、界面稳定性、缺陷工程以及光电器件制备中具有突出优势，广泛用于半导体工艺、光电薄膜、传感器、透明电子学与功能材料研究。

硅提供结构稳定性、耐高温性能与半导体性质，铟则提供良好导电性与光学性能，使 SiIn 靶材成为兼具机械稳定性、电学可调性和光学功能的优质薄膜材料来源。

产品详情（Detailed Description）

硅铟靶材采用高纯原料，通过冷等静压（CIP）成型与真空烧结或热压烧结（HP）工艺制备。工艺过程确保材料组织均匀、成分分布稳定，同时具备高致密度，使其在 RF / DC 溅射中表现出色。

典型规格如下：

• 纯度（Purity）：99.9% – 99.99%

• 直径（Diameter）：Ø25 – Ø300 mm（支持 1″ / 2″ / 3″ 全尺寸定制）

• 厚度（Thickness）：3 – 6 mm

• 成分比例（Composition）：Si/In 可按需求定制（常见如 Si20In80、Si30In70）

• 成型工艺：CIP + 真空烧结 / HP

• 致密度（Density）：≥95% 理论密度（TD）

• 背板（Bonding）：可提供 Cu / Ti 背板或铟焊结构

材料性能优势：

• 薄膜附着力强

• 良好的光学调控能力（折射率、透光率）

• 稳定的电学性能

• 小颗粒率（Low Particles）

• 优异的薄膜一致性与致密性

• 适用于大面积生产与高稳定性工艺

应用领域（Applications）

硅铟靶材具有广泛的光电与电子应用价值，典型领域包括：

1. 半导体薄膜（Semiconductors）

• 缓冲层、过渡层

• 半导体调控层

• 电极结构中的功能膜层

2. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 折射率调节膜

• 反射/透射光学结构

• 多层光学器件

3. 透明电子学与显示技术

适用于：

• 透明电子薄膜

• OLED、TFT 结构层

• 显示面板的光电辅助结构

4. 传感器薄膜（Sensors）

• 气体传感器

• 光电传感组件

• 多功能响应薄膜

5. 科研领域

适用于带隙调控、界面工程、薄膜缺陷调节等研究方向。

兼容 RF / DC 磁控溅射、共溅射、反应溅射（Ar/O₂、Ar/N₂）。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison）

常见问题（FAQ）

包装（Packaging）

每片硅铟靶材出厂前均：

• 经过纯度、尺寸与外观检查

• 采用真空密封防氧化

• 使用多层防震泡沫保护

• 装入出口级硬纸箱/木箱

• 附带唯一批次编号与追踪标签

确保运输过程中的安全与洁净。

结论（Conclusion）

硅铟靶材（SiIn）凭借兼具半导体和光学电学调控优势的材料特性，在光电薄膜、半导体工艺、显示技术和科研材料研究中具有广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司可提供不同成分比例、尺寸与背板形式的定制服务，是科研与工业应用的可靠合作伙伴。

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