硅化铌靶材（NbSi）

产品简介（Introduction）

硅化铌（NbSi）是一类重要的金属硅化物材料，兼具金属的导电性与陶瓷材料的高硬度、高熔点和优异的耐腐蚀性。NbSi 在高温结构材料、微电子薄膜、电极层、扩散阻挡层及航空航天领域广泛应用。其化学稳定性强、抗氧化能力优良，是制备高可靠性薄膜结构的关键材料之一。

作为磁控溅射靶材，NbSi 能沉积成分均匀、致密度高、附着力优异的 Nb–Si 合金薄膜，使其在半导体器件金属化、超导材料研究、高温薄膜、功能保护层等领域表现突出。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司采用高纯铌粉与硅粉为原料，通过真空固相反应、冷等静压（CIP）、热压烧结（HP/HIP）、精密加工等工艺制备 NbSi 靶材，使其具有高致密度、低杂质、高稳定性与优良的机械完整性。

可提供规格

• 纯度：99.5% – 99.9%（2N5 – 3N）

• 成分可定制：NbSi、NbSi₂、Nb₅Si₃ 等

• 尺寸：Ø25–300 mm（圆靶）；矩形靶可定制

• 厚度：3–10 mm

• 密度：≥ 95% 理论密度

• 工艺流程：CIP → 真空固相反应 → HP/HIP → 表面精磨

• 背板选择：Cu / Ti 背板，支持铟焊与扩散焊

• 形态：圆片靶、方靶、阶梯靶、多段靶皆可提供

材料优势

• 高熔点、优异热稳定性

• 良好导电性，适合集成电路金属化

• 强耐腐蚀性，适用于恶劣工况

• 膜层附着力好，适合多层结构沉积

• 高致密度降低颗粒风险，提高膜层均匀性

应用领域（Applications）

1. 半导体工艺与微电子薄膜

NbSi 薄膜兼具低电阻与高热稳定性，可用于：

• 金属化薄膜

• 扩散阻挡层（Barrier Layer）

• 电极层

• 高温互连结构

2. 高温结构薄膜

Nb–Si 系材料具有优异抗氧化能力，用于：

• 高温防护膜

• 涡轮、航空材料相关薄膜

• 耐高温功能层

3. 超导材料研究

某些 Nb–Si 化合物具有超导特性，适用于：

• 超导薄膜

• 量子器件

• 低温电子学

4. 工具与耐磨涂层

NbSi 的高硬度与耐腐蚀性使其可用于：

• 工具强化层

• 机械磨损保护膜

5. 复杂多层薄膜结构

与 TiN、SiO₂、MoSi₂ 等材料共同构建金属/陶瓷复合膜层。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 单片真空密封

• 内部多层泡沫与固定结构

• 外层出口级硬箱

• 附 ICP 杂质分析、密度检测、尺寸报告

确保靶材在运输过程中不受污染或损伤。

结论（Conclusion）

硅化铌靶材（NbSi）凭借其高熔点、优异的耐腐蚀性、可控电学特性与强热稳定性，在半导体制造、高温材料、超导研究与复杂薄膜结构中具有重要价值。苏州科跃材料可提供多种成分、纯度与尺寸的 NbSi 溅射靶材，适用于科研与工业量产。

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