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氮化锆蒸发材料（Zirconium Nitride Evaporation Material，ZrN）是一种由锆（Zr）与氮（N）组成的高性能过渡金属氮化物蒸发材料，广泛应用于真空热蒸发与电子束蒸发（E-beam Evaporation）等 PVD 薄膜沉积工艺中。
ZrN 以其高硬度、优异的耐磨与耐腐蚀性能、良好的导电性以及独特的金黄色金属外观而闻名，在功能薄膜、防护涂层及装饰与工程复合应用中均具有成熟稳定的应用基础。
在需要薄膜同时满足机械强度、化学稳定性与外观功能性的应用场景中，氮化锆是一类工程化程度高、性能均衡的蒸发材料选择。
氮化锆蒸发材料通常采用高纯锆原料，通过受控氮化反应及高温合成与致密化工艺制备形成稳定的 Zr–N 化合物相（ZrN）。在原料提纯、化学计量控制、晶相稳定及成型加工的全过程中，严格控制氧、碳等杂质含量，以确保蒸发过程中成分稳定、蒸发行为可控、薄膜颜色与性能一致性高。
纯度等级：99.5% – 99.9%（科研与工程常用）
材料体系：Zr–N（氮化锆，ZrN）
物理特性：高硬度、高耐磨性
电学特性：良好导电性，适用于功能与电极薄膜
光学/外观特性：金黄色金属光泽，可替代 TiN
成膜优势：膜层致密、附着力强、应力可控
供货形态：颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态，适配钼舟、钨舟或电子束坩埚
在中高熔点材料应用中，电子束蒸发更有利于获得稳定蒸发速率与高致密薄膜。
耐磨与防护薄膜：机械部件、模具、刀具表面
装饰与功能涂层：金色外观装饰膜、替代 TiN
导电与功能薄膜：耐热导电层、功能电极
耐腐蚀涂层：化工、真空及腐蚀环境
多层复合膜系：与 ZrO₂、ZrC、TiN、CrN 等材料组合
科研与实验室应用：氮化物薄膜与界面工程研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | ZrN | 决定力学与电学性能 |
| 纯度 | 99.5% – 99.9% | 控制薄膜缺陷 |
| 熔点 | >2900 °C | 适合高温沉积 |
| 硬度 | 高 | 耐磨与防护性能 |
| 电导性 | 良好 | 功能薄膜应用 |
| 供货形态 | 颗粒 / 块状 / 压片 | 适配蒸发设备 |
| 蒸发方式 | 热蒸发 / 电子束蒸发 | 工艺兼容性强 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氮化锆蒸发材料（ZrN） | 耐磨、耐蚀、金色外观 | 功能/装饰薄膜 |
| 氮化钛（TiN） | 工艺成熟 | 装饰与耐磨膜 |
| 氮化铬（CrN） | 耐蚀性好 | 防护涂层 |
| 碳化锆（ZrC） | 高温稳定 | 高温防护薄膜 |
Q1：ZrN 适合哪种沉积方式？
A：热蒸发与电子束蒸发均可，电子束蒸发更适合高致密薄膜需求。
Q2：ZrN 薄膜的主要优势是什么？
A：高硬度、耐磨耐腐蚀性能与美观的金属金色外观。
Q3：是否可用于装饰镀膜？
A：可以，常用于替代 TiN 的金色装饰功能膜。
Q4：是否具有导电性？
A：具有良好导电性，适用于功能与电极薄膜。
Q5：膜层附着力如何？
A：在金属、Si、玻璃及陶瓷基底上表现良好。
Q6：是否可与其他材料形成多层膜？
A：可以，常用于耐磨/耐蚀多层或梯度结构设计。
Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在合理功率与真空条件下，蒸发过程稳定、重复性高。
Q8：应用更偏科研还是工程？
A：兼顾科研探索与工程及装饰应用。
所有氮化锆蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的成分稳定性与使用可靠性。
氮化锆蒸发材料（ZrN）凭借其优异的耐磨与耐腐蚀性能、良好的导电性以及独特的金属外观特征，在防护涂层、功能薄膜及装饰镀膜领域中具有稳定而成熟的应用价值。对于需要在性能与外观之间取得平衡的真空蒸发薄膜制备应用，ZrN 是一类工程成熟度高、应用范围广泛的专业蒸发材料选择。
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