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氮化铬(Chromium Nitride,CrN)是一种性能成熟、应用广泛的过渡金属氮化物材料,具有优异的耐磨性、耐腐蚀性、良好的热稳定性以及较低的摩擦系数。与 TiN 等传统硬质涂层相比,CrN 在高温环境和腐蚀介质中表现出更好的稳定性,因此被广泛应用于模具涂层、机械零部件防护、精密工具及功能薄膜领域。
作为溅射靶材,氮化铬能够稳定沉积出致密、均匀、附着力强的 CrN 薄膜,适用于 DC 或 RF 磁控溅射 工艺,是工业级耐磨防护涂层和科研薄膜制备中的经典材料之一。
氮化铬靶材采用高纯铬源与精确氮化工艺制备,并通过真空烧结、热压或热等静压(HIP)工艺实现高致密度与均匀的相结构。
化学式: CrN
晶体结构: NaCl 型立方结构
纯度: 99.5% – 99.99%(2N5–4N,可定制)
密度: ≥95% 理论密度
尺寸: Ø25 – Ø300 mm(支持矩形靶、异形靶定制)
厚度: 3 – 6 mm(支持薄靶或加厚靶)
制造工艺: Vacuum Sintering / Hot Pressing / HIP
背板选项: Cu / Ti / Mo(支持铟焊)
外观: 深灰至银灰色致密金属陶瓷质感表面
高致密 CrN 靶材可显著降低溅射颗粒生成,提升薄膜均匀性和使用寿命,适合中高功率溅射工艺。
切削工具与成形模具涂层
机械零部件耐磨防护层
高负载工业部件表面强化
高温氧化环境防护涂层
化工与腐蚀性介质环境部件
汽车与航空零部件涂层
深灰色功能装饰涂层
低摩擦表面工程薄膜
CrN/Cr 多层耐磨体系
与 TiN、VN 等氮化物复合涂层
薄膜摩擦学与力学性能研究
| 参数 | 典型范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5%–99.99% | 影响薄膜致密度与稳定性 |
| 密度 | ≥95% TD | 降低颗粒、提升寿命 |
| 尺寸 | Ø25–Ø300 mm | 适配主流溅射设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可定制 |
| 熔点 | ~1770 °C | 适合高温沉积 |
| 硬度 | HV 1800–2200 | 优异耐磨性能 |
| 摩擦系数 | 低 | 有利于减摩应用 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo | 提升散热与结构稳定性 |
| 材料 | 主要特点 | 典型应用 |
|---|---|---|
| CrN | 耐磨 + 耐腐蚀 | 工业防护涂层 |
| TiN | 高硬度、金色外观 | 工具涂层 |
| VN | 导电 + 耐磨 | 功能薄膜 |
| ZrN | 高温稳定、装饰性 | 装饰与防护 |
| Cr | 良好附着性 | 过渡层 |
CrN 靶材适合 DC 还是 RF 溅射?
CrN 具有良好导电性,DC 与 RF 均可使用。
CrN 与 TiN 相比有什么优势?
CrN 在耐腐蚀性和高温稳定性方面表现更优。
是否适合高功率溅射?
是的,建议选用高致密 HIP 靶材。
CrN 薄膜颜色如何?
通常呈深灰至银灰色,均匀稳定。
是否支持共溅射或多层结构?
支持,常用于 Cr/CrN 或 CrN/TiN 多层体系。
真空密封包装
干燥剂防潮保护
防震泡棉固定
出口级木箱运输
随附 COA 与批次追溯编号
氮化铬靶材(CrN)凭借其优异的耐磨性、耐腐蚀性和热稳定性,在工业防护涂层、机械零部件和科研薄膜制备中具有长期成熟的应用基础。高纯、高致密 CrN 靶材能够显著提升薄膜质量与工艺可靠性,是耐磨与防护涂层领域的经典选择。
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