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氮化铌（NbN）是一种高性能过渡金属氮化物材料，兼具优异的导电性、极高的热稳定性、良好的化学惰性以及显著的超导特性。NbN 在低温条件下表现出较高的超导转变温度（Tc），使其在超导电子学、量子器件、红外探测和高端薄膜研究领域具有不可替代的地位。
作为磁控溅射靶材，NbN 能稳定沉积致密、成分均匀、附着力强的氮化铌薄膜，广泛应用于超导薄膜、扩散阻挡层、导电层及高温功能薄膜的制备。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯铌原料，通过真空氮化反应、冷等静压（CIP）、热压/热等静压（HP/HIP）烧结及精密加工工艺制备 NbN 靶材，确保靶材具有高致密度、低杂质含量和优异的溅射稳定性。
化学组成：NbN
纯度等级：99.5% / 99.9%（2N5–3N）
靶材尺寸：Ø25–300 mm
厚度范围：3–10 mm
致密度：≥ 95% 理论密度
制造工艺：真空氮化 / CIP / HP / HIP
背板选择：Cu / Ti 背板（支持铟焊或扩散焊）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、多段拼接靶
优异导电性，适用于高性能导电薄膜
高温稳定性强，适合严苛工艺条件
化学稳定性好，耐腐蚀
可形成高致密、低缺陷薄膜
超导特性显著，适合低温器件
NbN 是超导领域的核心材料之一，用于：
超导纳米线单光子探测器（SNSPD）
超导量子比特
超导微波电路
低温电子学器件
扩散阻挡层（Barrier Layer）
金属化薄膜
高可靠性导电层
红外探测器电极
高速光电器件功能薄膜
高温导电层
保护性功能薄膜
微机电系统导电结构
功能过渡层
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.5–99.9% | 决定薄膜导电性与超导性能 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研与工业溅射设备 |
| 厚度 | 3–10 mm | 影响靶材寿命与功率匹配 |
| 致密度 | ≥ 95% | 降低颗粒、提高薄膜质量 |
| 电学特性 | 高导电性 / 超导性 | 适合低温与高速器件 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止开裂 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| NbN | 超导特性、导电性好 | 量子器件、SNSPD |
| TiN | 硬度高、稳定性强 | 阻挡层、耐磨涂层 |
| TaN | 扩散阻挡性能优异 | 半导体工艺 |
| NbTiN | 更高 Tc | 高端超导薄膜 |
| MoN | 高温稳定性好 | 功能导电薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| NbN 靶材适用于哪种溅射方式？ | DC 与 RF 均可，超导薄膜常用 DC 反应溅射。 |
| NbN 是否具有超导性？ | 是，NbN 是重要的超导薄膜材料。 |
| 是否建议使用背板？ | 强烈建议使用 Cu 背板以提升散热能力。 |
| 薄膜是否需要精确控氮？ | 是，沉积过程中氮分压对性能影响显著。 |
| 是否支持大尺寸靶材？ | 支持 Ø300 mm 及非标定制。 |
| 是否支持科研小批量？ | 支持，一片起订。 |
单片真空密封包装
内部多层防震缓冲
外层出口级硬箱
附 ICP 杂质分析、致密度与尺寸检测报告
确保靶材在运输与储存过程中保持洁净、稳定与可追溯。
氮化铌靶材（NbN）凭借其优异的导电性、显著的超导特性及高温稳定性，是超导电子学、量子器件、红外探测与高端薄膜制造领域的关键材料。苏州科跃材料可提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 NbN 溅射靶材，满足科研与工业应用的严格要求。
如需获取报价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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