氮化钒靶材（VN）

产品简介（Introduction）

氮化钒（Vanadium Nitride，VN）是一种典型的过渡金属氮化物材料，具有高硬度、优异的耐磨性、良好的导电性和热稳定性。VN 同时兼具陶瓷与金属材料特性，在耐磨涂层、功能薄膜、电极材料以及先进材料研究领域中具有重要应用价值。

作为溅射靶材，氮化钒能够在磁控溅射条件下沉积出致密、均匀、附着力强的薄膜，适用于 DC 或 RF 磁控溅射 工艺，广泛应用于科研级薄膜制备及工业表面工程。

产品详情（Detailed Description）

氮化钒靶材采用高纯钒源与氮化工艺制备，并通过真空烧结、热压或热等静压（HIP）工艺实现高致密度与成分均匀性。

• 化学式： VN

• 晶体结构： NaCl 型立方结构

• 纯度： 99.5% – 99.99%（2N5–4N，可定制）

• 密度： ≥95% 理论密度

• 尺寸： Ø25 – Ø300 mm（支持矩形靶定制）

• 厚度： 3 – 6 mm（可定制薄靶或加厚靶）

• 制造工艺： Vacuum Sintering / Hot Pressing / HIP

• 背板选项： Cu / Ti / Mo（支持铟焊）

• 外观： 深灰至黑色致密陶瓷金属光泽表面

高致密 VN 靶材可有效降低溅射颗粒，提高薄膜均匀性与工艺稳定性。

应用领域（Applications）

● 耐磨与防护涂层

• 工具与模具耐磨涂层

• 高摩擦工况表面强化层

• 工业零部件防护涂层

● 功能薄膜与电子材料

• 导电耐磨薄膜

• 功能电极层

• 电子器件界面层

● 能源与先进材料研究

• 超级电容器电极材料（VN 具有优异电化学性能）

• 电化学储能薄膜研究

• 新型氮化物功能材料

● 多层与复合薄膜

• 与 TiN、CrN、VN 等氮化物多层结构

• 耐磨 + 导电复合涂层设计

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

• VN 靶材适合 DC 还是 RF 溅射？
  VN 具有导电性，DC 与 RF 均可使用。

• VN 薄膜的主要优势是什么？
  同时具备高硬度、耐磨性与良好导电性能。

• 是否可提供高致密 HIP 靶材？
  可以，适用于高功率溅射工艺。

• 是否支持共溅射？
  支持，与 Ti、Cr、N 等材料广泛用于复合薄膜。

• VN 是否适用于能源材料研究？
  是，VN 是研究型超级电容器电极的常见材料之一。

包装与交付（Packaging）

• 真空密封包装

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡棉固定

• 出口级木箱运输

• 随附 COA 与批次追溯编号

结论（Conclusion）

氮化钒靶材（VN）凭借其高硬度、优异耐磨性、良好导电性能与热稳定性，在耐磨涂层、功能薄膜、电子材料及能源研究中具有广泛应用前景。高纯、高致密 VN 靶材可显著提升薄膜一致性与可靠性，是科研与工业溅射应用的理想选择。

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