氮化钒蒸发材料（VN）

产品详情（Detailed Description）

氮化钒蒸发材料以高纯钒原料为基础，通过受控氮化反应与高温合成/致密化工艺制备形成稳定的 V–N 化合物相（VN）。在原料提纯、化学计量控制、晶相稳定与成型加工的全过程中，严格控制氧、碳等杂质含量，以确保蒸发过程中成分稳定、蒸发行为可控、薄膜性能重复性高。

• 纯度等级：99.5% – 99.9%（科研与工程常用）

• 材料体系：V–N（氮化钒，VN）

• 物理特性：高硬度、良好耐磨性

• 电学特性：良好导电性，适合功能与电极薄膜

• 化学特性：耐腐蚀、抗氧化能力优于纯钒

• 成膜优势：膜层致密、附着力好、应力可控

• 供货形态：颗粒 / 块状 / 压片 / 定制形态，适配钼舟、钨舟或电子束坩埚

对于获得高致密、低缺陷薄膜，电子束蒸发更为推荐；中等功率条件下亦可采用热蒸发。

应用领域（Applications）

• 耐磨与防护薄膜：机械部件、模具、功能表面

• 导电与功能薄膜：耐热导电层、功能电极

• 高温与耐腐蚀涂层：真空、化工及中高温环境

• 多层复合膜系：与 VN/VC、TiN、CrN、ZrN 等材料组合

• 科研与实验室应用：氮化物薄膜、界面与结构研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

Q1：VN 适合哪种沉积方式？
A：热蒸发与电子束蒸发均可；高致密需求建议电子束蒸发。

Q2：VN 薄膜的核心优势是什么？
A：良好的导电性与耐磨、耐腐蚀性能的综合平衡。

Q3：是否适合导电薄膜应用？
A：适合，可用于耐热导电或功能电极层。

Q4：是否可用于高温环境？
A：可以，在中高温条件下保持结构与性能稳定。

Q5：膜层附着力如何？
A：在金属、Si、玻璃及陶瓷基底上表现良好。

Q6：是否可与其他材料形成多层膜？
A：可以，常用于耐磨/耐蚀多层或梯度结构设计。

Q7：蒸发过程是否稳定？
A：在合理功率与真空条件下，蒸发过程稳定、重复性高。

Q8：应用更偏科研还是工程？
A：兼顾科研探索与工程型应用。

包装与交付（Packaging）

所有氮化钒蒸发材料在出厂前均经过成分与外观检测，并贴附唯一可追溯标签。产品采用真空密封、防潮、防震缓冲与出口级包装方案，确保运输与储存过程中材料的成分稳定性与使用可靠性。

结论（Conclusion）

氮化钒蒸发材料（VN）凭借其良好的导电性能、可靠的耐磨与耐腐蚀能力以及稳定的工艺适应性，在功能薄膜与工程防护涂层领域中具有明确应用价值。对于需要在性能、成本与工艺稳定性之间取得平衡的真空蒸发薄膜制备应用，VN 是一类成熟可靠、适用范围广的专业蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com