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氧化镨镍（PrNiO）靶材是一类典型的过渡金属氧化物溅射靶材，属于稀土–过渡金属复合氧化物体系。PrNiO 具有可调控的电学、磁学和光学特性，在新型电子材料、强关联氧化物薄膜、神经形态计算材料、传感器与光电功能膜研究中具有重要应用价值。
Pr–Ni–O 体系在外加电场、温度或应力作用下会表现出可调电阻（resistive switching）、金属–绝缘转变（MIT）等特性，使其成为先进电子器件与薄膜研究中的关键材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的 PrNiO 溅射靶材，通过精确控制烧结温度、粉末活性及成分均匀性，确保靶材具有优异的稳定性和成膜一致性。
典型参数：
纯度：99.9%（3N）
尺寸：直径 25–300 mm，可定制矩形靶
厚度：3–6 mm（可按需求定制）
密度：≥ 90–95% 理论密度（TD）
工艺：CIP 冷等静压 + 高温固相烧结 / 可选 HIP 热等静压
外观：深灰或黑灰陶瓷质感，微观结构均匀
背板结合（可选）：Cu / Ti / Mo 背板 + 铟焊工艺（提高散热与机械强度）
高致密度结构 → 减少气孔，提高成膜稳定性
成分均匀性佳 → 保证复杂氧化物薄膜比例不偏析
热稳定性强 → 适用于 RF 与 DC 溅射
表面平整度高 → 显著改善薄膜附着力与一致性
适配多种基底 → Si、玻璃、ITO、蓝宝石等
PrNiO 溅射靶材常应用于以下前沿研究与功能薄膜制备：
强关联氧化物薄膜（correlated oxides）
金属–绝缘转变（MIT）材料研究
神经形态计算材料（neuromorphic materials）
可调电阻薄膜 / RRAM 结构
温敏 / 应力敏感薄膜材料
光电功能层、调控型膜层结构
磁电耦合材料研究
科研院校的多层复合结构实验
其电子结构可通过退火、应力、厚度调控等方式精确调节，是材料科学研究中的热门体系。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%（3N） | 降低杂质、提升薄膜质量 |
| 直径 | 25–300 mm | 支持绝大多数溅射设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响靶寿命与沉积速率 |
| 密度 | ≥ 90–95% TD | 决定薄膜致密度与稳定性 |
| 工艺 | CIP / 烧结 / HIP | 确保材料结构致密稳固 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo + Indium Bond | 提升散热与抗裂性能 |
| 兼容设备 | DC / RF Sputtering | 常规真空镀膜系统均可 |
| 材料 | 特性 | 应用 |
|---|---|---|
| PrNiO | 强关联电子结构、可调电阻 | MIT 薄膜、神经形态器件 |
| PrCoO₃ | 稀土钴氧化物，高温稳定性好 | 传感器、电催化研究 |
| NiO | 经典氧化镍半导体 | TCO、光电薄膜 |
| PrMnO₃ | 强磁、电耦合材料 | 多铁性薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| PrNiO 属于哪类薄膜材料？ | 属于稀土–过渡金属氧化物，适用于强关联体系研究。 |
| 适合 RF 还是 DC 溅射？ | 推荐 RF 溅射，可获得更稳定成膜率与成分一致性。 |
| 背板是否必须？ | 大尺寸靶材建议使用 Cu/Ti 背板以提升散热。 |
| 成膜是否容易偏离化学计量比？ | 我司高致密度靶材可显著降低偏析，成膜稳定性更好。 |
| 可以共溅射吗？ | 可与 NiO、PrO₂、SrTiO₃ 等共溅射进行成分调控。 |
| 是否适用于神经形态计算研究？ | 是，PrNiO 在可调电阻与 MIT 结构中具有重要价值。 |
| 如何储存？ | 常温、干燥环境即可，避免吸潮与机械损伤。 |
所有 PrNiO 靶材均采用：
真空密封包装
防震缓冲
防静电包装袋
出口级木箱或纸箱
并附带唯一产品追踪编号，确保溯源与质量可控。
氧化镨镍（PrNiO）靶材是强关联电子系统、神经形态材料和新型电子薄膜器件的重要研究材料。苏州科跃材料科技有限公司可提供高纯度、高致密度、结构稳定、支持定制的 PrNiO 溅射靶材，为您的科研或开发项目提供可靠材料支持。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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