氧化铋铁靶材(BiFeO)

氧化铋铁靶材(BiFeO)

产品简介(Introduction)

氧化铋铁靶材(BiFeO)是一种重要的功能性复合氧化物材料,具备铁电性、磁性以及磁电耦合效应等多重特性,是新型电子器件与先进薄膜技术中的核心材料。BiFeO 在薄膜制备中表现稳定,可用于多铁性薄膜、铁电薄膜、光电结构以及传感器材料,是科研与高端制造中的常用靶材之一。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司生产的 BiFeO 靶材采用高纯氧化铋与氧化铁粉末,经冷等静压(CIP)与热压烧结(Hot Pressing)或 HIP 工艺制备,靶材致密度高、结构均匀,适配 RF、DC 等多种磁控溅射系统。

规格与参数:

  • 纯度:99.9% – 99.99%

  • 密度:≥ 97–99% T.D.

  • 尺寸:直径 25–300 mm(支持方片、特殊形状定制)

  • 厚度:3–6 mm

  • 制造工艺:CIP + 热压 / HIP 致密化

  • 背板:Cu / Ti / Mo 背板,铟焊可选

性能优势:

  • 高致密度,薄膜均匀性优良

  • 稳定的多铁性与磁电耦合表现

  • 成膜附着性佳,重复性强

  • 适用于高真空、高功率薄膜制备环境


应用领域(Applications)

  • 多铁性薄膜(BiFeO₃ 等)

  • 铁电存储器(FeRAM)

  • 光电薄膜结构

  • 压电 / MEMS 器件

  • 传感器薄膜

  • 材料科研领域


技术参数(Technical Parameters)

参数 范围 说明
纯度 99.9%–99.99% 稳定薄膜性能
致密度 ≥ 97–99% T.D. 提高膜层一致性
尺寸 25–300 mm 兼容主流镀膜设备
厚度 3–6 mm 可定制
背板 Cu / Ti / Mo / In 提升散热性能

常见问题(FAQ)

问题 答案
BiFeO 靶材可用于哪些镀膜设备? 兼容 RF、DC、脉冲溅射等。
可用于制备 BiFeO₃ 吗? 是的,这是最典型的应用之一。
是否可定制化学计量? 可以定制 BiₓFeᵧO𝓏 配比。
是否能提供背板? 可选 Cu / Ti / Mo / In 焊接。
是否附带检测报告? 每批均提供 COA、密度与外观检验记录。

包装与交付

  • 真空密封防污染

  • 防震抗压包装

  • 出口级木箱

  • 唯一批号与检测报告随货提供


结论(Conclusion)

氧化铋铁靶材(BiFeO)凭借优秀的铁电性、磁性与磁电耦合特性,是科研机构与先进制造中极具价值的多铁性薄膜材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度、可完全定制的 BiFeO 靶材,适用于各种高端薄膜制备工艺。

如需报价请联系:
📧 sales@keyuematerials.com