氧化锆靶材（ZrO₂）

产品简介（Introduction）

氧化锆靶材（ZrO₂）是一类重要的功能陶瓷靶材，具有优异的热稳定性、化学惰性与高介电性能，长期应用于半导体薄膜、光学镀膜、能源材料以及先进结构陶瓷研究等领域。高纯度 ZrO₂ 在薄膜沉积中表现出杰出的膜层致密度、耐高温与绝缘性能，是众多高端制造工艺中不可或缺的关键材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度（99.9%–99.99%）氧化锆靶材，可按需定制尺寸、形状与背板焊接方式。靶材通过冷等静压（CIP）成型、烧结致密化，并可进一步进行精密研磨抛光，以获得均匀、低孔隙率的表面质量，有助于提升薄膜的结构完整性和均匀性。

• 典型纯度： 3N–4N

• 尺寸范围： Ø25–Ø300 mm，可定制矩形、阶梯、分割式结构

• 厚度： 3–6 mm

• 制造工艺： CIP 成型 + 高温烧结 + 精磨

• 背板可选： 铜背板 / 钛背板 / 铟焊工艺

  • 背板可有效提升热传导、改善内部应力，延长使用寿命并提升溅射稳定性。

高致密氧化锆靶材可显著减少溅射过程中的颗粒产生，提高薄膜附着力和介电性能。

应用领域（Applications）

• 半导体工艺：

  • 介电层（High-k Dielectrics）

  • 电容器薄膜、阻挡层、绝缘层

• 光学镀膜：

  • 高折射率薄膜

  • 反射镜、滤光片

  • 多层光学干涉结构

• 能源材料：

  • 固体氧化物燃料电池（SOFC）

  • 透明导电/绝缘结构

• 装饰与保护涂层：

  • 建筑玻璃、车窗光学镀膜

• 科研实验：

  • PVD、RF/DC 磁控溅射

  • 多层复合结构薄膜制备

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有氧化锆靶材在出厂前均通过严格的尺寸、密度、纯度与外观检测，并贴附唯一追溯编码。
包装采用抽真空密封 + 防震泡沫 + 出口级木箱，确保在运输途中保持洁净与完好。

结论（Conclusion）

氧化锆靶材（ZrO₂）凭借其出色的介电特性、光学性能与热稳定性，在半导体、光学镀膜及能源领域具有重要价值。其高致密性、优良的薄膜均匀性以及可定制的背板方案，使其成为高端薄膜制备中的优选靶材。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com