氧化锆蒸发材料(ZrO₂)

氧化锆蒸发材料(Zirconium Dioxide Evaporation Material, ZrO₂)是一种高熔点、高化学稳定性、高折射率的功能氧化物蒸发源,在光学薄膜、电子介质层、高温防护涂层及科研领域中应用广泛。ZrO₂ 薄膜以其优异的耐热性、耐腐蚀性与结构稳定性,成为高可靠性薄膜沉积的常用选择。

在真空蒸发与 PVD 工艺中,高纯 ZrO₂ 可作为直接蒸发源或反应沉积前驱体,制备致密、均匀且性能稳定的氧化物薄膜。

产品详情(Detailed Description)

氧化锆蒸发材料采用高纯氧化锆粉体,经精确配料、成形与高温烧结制备,确保材料致密、化学计量稳定并适合高能束流沉积环境。

  • 化学组成:ZrO₂

  • 纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)

  • 材料形态:块状、颗粒状、定制尺寸

  • 制造工艺:高纯粉体 → 成形 → 高温烧结

  • 表面状态:致密、低吸附,适合高真空蒸发

高品质 ZrO₂ 蒸发材料可有效:

  • 提升薄膜致密度与厚度均匀性;

  • 保证光学与介电性能的一致性;

  • 降低蒸发过程中的成分波动;

  • 延长蒸发源与设备使用寿命。

应用领域(Applications)

  • 光学镀膜:高折射率层、反射与增透膜

  • 电子与介电薄膜:绝缘层、缓冲层、界面工程

  • 高温防护涂层:耐热、耐腐蚀功能层

  • 传感与功能器件:稳定氧化物功能薄膜

  • 科研实验:相结构、薄膜应力与物性研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学组成 ZrO₂ 决定薄膜结构与性能
纯度 99.9% – 99.99% 降低杂质缺陷
形态 块状 / 颗粒 / 定制 适配不同蒸发源
熔点 ~2715 °C 适合高温蒸发
适用工艺 电子束蒸发 / 高温热蒸发 高熔点氧化物优选
包装方式 真空密封 防止吸湿与污染

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
氧化锆(ZrO₂) 高熔点、高稳定性 光学与高温薄膜
氧化钇锆(YZrO/YSZ) 相稳定、离子导电 SOFC、电解质层
氧化铝(Al₂O₃) 工艺成熟 通用保护与介电层
氧化钛(TiO₂) 高折射率 光学功能薄膜

常见问题(FAQ — 聚焦应用)

Q1:ZrO₂ 蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:推荐电子束蒸发(E-beam),也可用于高温热蒸发。

Q2:ZrO₂ 薄膜适合高温应用吗?
A:非常适合,具有优异的热稳定性与耐腐蚀性。

Q3:ZrO₂ 的光学性能如何?
A:折射率高,常用于光学功能层与多层膜结构。

Q4:是否可用于反应蒸发?
A:可以,在受控气氛下可实现特定结构或性能调控。

Q5:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀尺寸有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。

Q6:ZrO₂ 薄膜致密度如何提升?
A:通过提高沉积能量、优化真空度与基底温度实现。

Q7:是否适合科研级应用?
A:非常适合,是氧化物薄膜研究中的常用材料。

Q8:材料如何储存?
A:建议真空密封保存,避免吸湿。

Q9:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发设备与工艺需求定制。

Q10:与 YSZ 有何区别?
A:YSZ 通过掺杂 Y₂O₃ 稳定晶相并提升离子导电性;ZrO₂ 更偏向光学与结构稳定应用。

包装与交付(Packaging)

所有氧化锆蒸发材料在出厂前均经过严格检测并建立批次追溯。产品采用真空密封、防震缓冲与出口级包装,确保运输与储存过程中保持材料洁净度与性能稳定。

结论(Conclusion)

氧化锆蒸发材料(ZrO₂)以其卓越的高温稳定性、化学惰性和光学性能,在光学薄膜、电子介质与高温防护领域中具有长期可靠的应用价值。对于追求高一致性、高可靠性与耐久性的薄膜沉积需求,ZrO₂ 是一种成熟、稳健的功能氧化物蒸发材料选择。

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sales@keyuematerials.com