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氧化铬蒸发材料通常以 Cr₂O₃ 为稳定供货与使用相（行业中常简写为 CrO），由高纯铬源经受控氧化、高温煅烧与致密化烧结制备，确保材料相组成稳定、杂质含量极低，适用于电子束蒸发与高真空热蒸发工艺。
典型化学组成：CrO / Cr₂O₃
稳定相：Cr₂O₃（α-Cr₂O₃）
纯度范围：99.9% – 99.99%（3N–4N）
材料形态：块状、颗粒状、定制尺寸
制造工艺：受控氧化 → 高温煅烧 → 致密化烧结
高品质氧化铬蒸发材料可有效：
保证薄膜化学计量稳定，降低相波动风险；
提升薄膜的致密度、硬度与耐磨性能；
改善光学薄膜的吸收控制与颜色一致性；
满足工业级与科研级镀膜的长期稳定需求。
光学镀膜：吸收层、反射调制层、光学功能膜
耐磨与保护涂层：硬质氧化物保护层
磁性与自旋相关研究：反铁磁氧化物体系
装饰与功能镀膜：颜色控制与表面强化
科研实验：过渡金属氧化物结构与物性研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 化学组成 | CrO / Cr₂O₃ | 决定稳定性与功能特性 |
| 稳定相 | α-Cr₂O₃ | 工程与科研常用 |
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 降低杂质引起的缺陷 |
| 形态 | 块状 / 颗粒 / 定制 | 适配不同蒸发源 |
| 熔点 | ~2435 °C（Cr₂O₃） | 适合高温蒸发 |
| 适用工艺 | 电子束蒸发 / 热蒸发 | 氧化物薄膜常用 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| 氧化铬（Cr₂O₃） | 稳定、耐磨、反铁磁 | 光学与保护涂层 |
| 氧化钴（CoO） | 反铁磁 | 磁性界面层 |
| 氧化镍（NiO） | p 型稳定 | 空穴传输层 |
| 氧化铁（Fe₂O₃） | 成本低 | 磁性与光学膜 |
Q1：CrO 与 Cr₂O₃ 是同一种材料吗？
A：严格来说不是。Cr₂O₃ 是最稳定、最常用的氧化铬相；CrO 多用于工程简写或指低价态氧化铬体系。
Q2：实际蒸发中通常使用哪一种？
A：绝大多数应用使用 Cr₂O₃，因其相稳定、蒸发行为可控。
Q3：氧化铬适合哪种蒸发方式？
A：非常适合电子束蒸发，也可用于高温热蒸发。
Q4：沉积过程中需要控制氧分压吗？
A：建议控制氧分压，以避免价态变化和薄膜成分偏移。
Q5：氧化铬薄膜颜色是否可控？
A：可通过厚度、工艺与气氛调节，实现深绿至深色吸收膜。
Q6：是否具有磁性特征？
A：Cr₂O₃ 为反铁磁材料，常用于磁性与自旋研究。
Q7：颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗？
A：会，均匀颗粒有助于获得稳定蒸发速率。
Q8：是否适合工业级镀膜？
A：适合，广泛用于耐磨与功能涂层。
Q9：材料如何储存？
A：建议真空或干燥环境密封保存。
Q10：是否支持定制规格？
A：支持，可根据蒸发源与设备定制。
所有氧化铬蒸发材料（CrO / Cr₂O₃）在出厂前均经过严格质量检测并建立批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲与出口级包装，确保运输与储存过程中材料纯度、相结构与蒸发性能稳定。
氧化铬蒸发材料（CrO / Cr₂O₃）凭借其卓越的热化学稳定性、耐磨性能与成熟的工艺适配性，在光学薄膜、保护涂层及过渡金属氧化物研究领域中占据重要位置。对于需要高稳定性、可重复沉积与长期可靠性的氧化物薄膜应用，氧化铬是一种成熟、可靠且工程与科研价值兼具的蒸发材料选择。
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