氧化铋靶材（BiO）

产品简介（Introduction）

氧化铋靶材（BiO）是一种常用于光电、催化和功能薄膜制备的金属氧化物材料，具有良好的电学性能、高介电常数以及优异的光学特性。作为 PVD（物理气相沉积）工艺中常见的稀有氧化物靶材，BiO 在光子器件、热电材料、铁电薄膜及透明导电膜等领域具有重要应用价值。

氧化铋材料具备良好的热稳定性和化学惰性，加之其易实现高致密度烧结，因而在许多高端薄膜制备工艺中被视为可靠的靶材选择。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司供应的氧化铋靶材（BiO）采用高纯度铋源材料，通过冷等静压（CIP）、真空热压烧结（Hot Pressing）或热等静压（HIP）制备而成。我们的靶材具有高致密度、均匀微结构与稳定的溅射速率，可适配多种薄膜沉积设备。

典型规格：

• 纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）

• 尺寸（Size）：直径 25–300 mm（可定制方片/圆形/阶梯）

• 厚度（Thickness）：3–6 mm（可定制）

• 密度（Density）：≥ 97–99% 理论密度

• 制造工艺：CIP 成型 + 热压烧结 / HIP 致密化

• 背板选项（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（Indium Bonding）

性能优势：

• 高致密度靶体 → 膜层均匀性佳

• 低杂质污染 → 适合高精度光学与电子薄膜

• 良好的介电与光学特性 → 应用于铁电薄膜与光子器件

• 优异的耐高温与化学稳定性 → 支持反应性溅射与高功率工况

应用领域（Applications）

氧化铋靶材（BiO）广泛用于：

• 透明导电薄膜（TCO）制备

• 铁电与多铁性薄膜材料（如 BiFeO₃、BiMnO₃ 的共溅射）

• 光电器件薄膜（光探测器、光电开关组件）

• 热电材料薄膜

• 催化薄膜与气敏薄膜

• 科研实验中的功能氧化物薄膜制备

BiO 常与其他氧化物（如 Fe₂O₃、MnO、TiO₂）共溅射，用于制备多铁性与铁电复合薄膜。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封防氧化

• 防震泡沫填充

• 出口级木箱保护

• 每片靶材均附带检测报告与批号

结论（Conclusion）

氧化铋靶材（BiO）凭借其优异的光学、电学与介电性能，是光电、铁电及功能薄膜制备中的重要靶材。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的 BiO 靶材，可完全按客户需求定制，适用于科研及工业生产。

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