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氧化铋铁靶材（BiFeO）是一种功能性复合氧化物材料，具有铁电性、压电性、磁电耦合效应等多重特性，被广泛应用于新型存储器、传感器、微机电系统（MEMS）以及光电材料等领域。由于铋（Bi）与铁（Fe）的协同作用，BiFeO 兼具良好的电学性能、介电常数和磁电耦合特性，是多铁性薄膜研究的重要材料。
在薄膜制备中，BiFeO 靶材可用于制备 BiFeO₃、BiₓFe_yO_z 等多铁性或铁电薄膜，是实验室研究与器件开发中的常用材料之一。
苏州科跃材料科技有限公司生产的氧化铋铁靶材（BiFeO）采用高纯 Bi、Fe 氧化物粉末，通过冷等静压（CIP）、真空热压（Hot Pressing）或 HIP 致密化工艺制备，以确保靶材具有高纯度、高致密度和稳定的溅射性能。
靶材组织均匀，适用于 RF / DC 磁控溅射及脉冲溅射等 PVD 工艺。
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，支持方靶与阶梯靶
厚度（Thickness）：3–6 mm（支持定制）
密度（Density）：≥ 97–99% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP + 热压 / 热等静压致密化
背板（Bonding）：Cu、Ti、Mo 背板 + 铟焊（In bonding）
卓越的铁电性能和磁电耦合特性
化学稳定性强、结晶性易控
高致密度有利于获得均匀薄膜
成膜附着性好、膜层重复性佳
多铁性薄膜（BiFeO₃ 等）
磁电耦合材料
新型非易失存储器（FeRAM、ME-RAM）
铁电薄膜
电容器
储能器件
光电功能薄膜
光电探测器、光催化材料
MEMS 器件
压电薄膜、微型传感器
科研用途
先进功能材料
薄膜相结构调控研究
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 靶材纯度越高，薄膜缺陷越少 |
| 密度 | ≥ 97–99% T.D. | 致密度提升薄膜均匀性 |
| 直径 | 25–300 mm | 支持全尺寸定制 |
| 厚度 | 3–6 mm | 厚度可调节溅射寿命与沉积速率 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热能力与靶材稳定性 |
| 材料 | 特点 | 应用 |
|---|---|---|
| BiFeO | 多铁性材料，兼具铁电与磁性 | 先进存储器、磁电耦合器件 |
| Bi₂O₃ | 高介电常数、光学应用多 | 透明导电膜、光学薄膜 |
| Fe₂O₃ | 高磁性 | 磁性薄膜、传感器 |
| BiMnO₃ | 强铁电性与磁性 | 多铁性研究 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| BiFeO 靶材主要用于哪些薄膜？ | 多铁性薄膜、铁电薄膜、光电薄膜。 |
| 是否可以用于制备 BiFeO₃ 薄膜？ | 是的，这是该靶材最典型应用之一。 |
| 支持哪些溅射方式？ | RF、DC、脉冲溅射均可。 |
| 是否能提供不同配比的 BiₓFe_yO_z？ | 可以定制各种成分比。 |
| 能否预装背板？ | 支持 Cu、Ti、Mo 背板及铟焊。 |
| 是否适合高功率溅射？ | 高致密靶材可稳定支持。 |
| 是否可提供检测报告？ | 每批次均随附分析报告及批号。 |
靶材单独真空封装
外层防震泡沫保护
国际出口级木箱包装
附带 COA、检测记录及唯一批号
氧化铋铁靶材（BiFeO）作为典型多铁性功能材料，是研究与开发先进薄膜器件不可或缺的重要靶材。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的 BiFeO 靶材，并支持尺寸、成分与背板全面定制，适用于各类科研与工业应用。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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