氧化铁靶材（FeO）

产品简介（Introduction）

氧化铁靶材（FeO）是一种重要的金属氧化物，广泛应用于光电、电子、催化反应以及材料科学等领域。氧化铁靶材具有较好的化学稳定性、热稳定性和优异的电学性能，适用于薄膜沉积、催化反应和气敏材料等高端应用。FeO 作为一种重要的磁性材料，在半导体、光电器件、能源存储和环保材料中具有重要作用。

氧化铁靶材能够提供均匀且高质量的薄膜，特别适用于高精度的光电、传感器以及催化材料的薄膜沉积。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化铁靶材（FeO）采用高纯度的铁金属原料，经过冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）或高温烧结（Hot Pressing）工艺制备而成，确保靶材具有高纯度、均匀的颗粒分布和优异的溅射性能。我们的氧化铁靶材适用于薄膜沉积、气敏材料、电池材料等领域，能够提供高质量的薄膜，满足多种高端应用需求。

常规规格：

• 纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）

• 尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）

• 密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）

• 工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化

• 背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）

性能优势：

• 高纯度材料 → 提供高质量薄膜，减少杂质污染

• 优异的热稳定性 → 能承受高温溅射和薄膜沉积

• 良好的化学稳定性 → 在多种环境下保持稳定

• 均匀微观结构 → 保证薄膜的稳定性和电学性能

应用领域（Applications）

氧化铁靶材广泛应用于以下领域：

• 催化材料：用于催化反应和环保材料的薄膜制备

• 气敏传感器：用于气体传感器、环境监测传感器等

• 电子薄膜：用于半导体器件、集成电路、薄膜电容等

• 光学薄膜：用于反射膜、抗反射膜、光学滤光膜等

• 高温薄膜：适用于高温环境中的薄膜保护层或绝缘层

• 磁性材料：用于制造磁性薄膜和高效能磁电器件

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 每个靶材都采用真空密封包装

• 防震泡沫保护，确保运输安全

• 出口级木箱包装，适合长途运输

• 每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告

结论（Conclusion）

氧化铁靶材（FeO）凭借其良好的热稳定性、化学稳定性和电学性能，广泛应用于催化材料、气敏传感器和光学薄膜等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格定制的氧化铁靶材，满足各类工业和科研需求。

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📧 sales@keyuematerials.com