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氧化钨靶材（WO）是一种常用于高温环境和电子、光电行业的金属氧化物靶材。其具有优异的高温稳定性、化学稳定性和良好的光学性质，广泛应用于光学镀膜、气体传感器、光电器件及电池行业。氧化钨的高熔点使其成为极端环境下的理想材料，特别是在需要高热稳定性的薄膜制备中。
在溅射过程中，WO 靶材可提供高质量、均匀的薄膜，特别适用于高精度的光学镀膜、透明导电膜等领域。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化钨靶材采用高纯钨金属原料，经高温烧结、冷等静压（CIP）或热等静压（HIP）制备而成，确保靶材具有均匀的微观结构和优异的溅射性能。我们提供的氧化钨靶材适用于高温、高功率磁控溅射系统，满足各种光学与电子薄膜沉积的需求。
常规规格：
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化
背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）
高纯度材料 → 确保薄膜的高质量和低杂质
极佳的热稳定性 → 可承受高温溅射和薄膜沉积
低孔隙率 → 薄膜更致密，附着力强
均匀微观结构 → 提高薄膜的光学与电学性能
氧化钨靶材在多个领域具有重要应用，主要包括：
光学镀膜：用于反射膜、抗反射膜、紫外光电薄膜等光学应用
透明导电膜：用于薄膜太阳能电池、透明电子器件等
传感器材料：广泛应用于气敏传感器、电池传感器等
光电器件：用于光纤通信、红外探测器等
高温保护膜：适用于高温环境下的薄膜保护层或结构材料
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度保证薄膜质量 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 提升薄膜致密度与稳定性 |
| 尺寸 | 直径 25–300 mm | 适配多种溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可根据需求定制 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热和稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| WO | 极高的热稳定性、化学稳定性 | 高温薄膜、光学膜 |
| TiO₂ | 良好的热稳定性、化学活性 | 光学薄膜、催化 |
| SnO₂ | 稳定性高，适用于透明导电膜 | 透明导电膜、传感器 |
| ZnO | 良好的透明导电性和环保性 | 透明导电膜、气敏传感器 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| WO 靶材适用于哪些溅射方法？ | WO 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。 |
| 氧化钨靶材的主要用途有哪些？ | 主要用于光学镀膜、高温薄膜、电池传感器等领域。 |
| 该靶材的光学透过率如何？ | WO 薄膜具有较高的光学透过率，适合光学镀膜应用。 |
| 高温下是否稳定？ | 是的，氧化钨靶材具有卓越的高温稳定性，适用于高温溅射。 |
| 该靶材是否适用于柔性基板？ | 是的，氧化钨薄膜在柔性基板上有良好的适配性。 |
| 是否提供背板结合选项？ | 是的，氧化钨靶材可选择铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In）背板。 |
| 是否提供定制规格？ | 可以，提供定制尺寸、厚度和背板选项。 |
| 是否能提供质量报告？ | 是的，每批次产品均附带详细的质量检测报告。 |
每个靶材都采用真空密封包装
防震泡沫保护，确保运输安全
出口级木箱包装，适合长途运输
每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告
氧化钨靶材（WO）凭借其优异的热稳定性、化学稳定性和光学性能，在高温应用、光学镀膜以及传感器材料等领域具有广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格定制的氧化钨靶材，满足工业和科研的不同需求。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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