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氧化钨铟靶材（WInO）是一类由氧化钨（WO₃）与氧化铟（In₂O₃）组成的复合氧化物靶材，兼具钨氧化物的电化学活性与铟氧化物的光电特性。W–In–O 体系可表现出良好的电导性、可调节的光学透过率、优异的化学稳定性和结构稳定性，因此 WInO 是研究透明导电薄膜（TCO）、电致变色薄膜、气敏薄膜以及光电功能膜的重要材料。
在磁控溅射沉积过程中，WInO 可形成均匀致密、成分稳定的薄膜，适用于科研薄膜试验、光电器件开发与高性能功能膜制备。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯粉体、精准计量比配制及致密化烧结工艺，确保 WInO 靶材在长时间溅射过程中具有高稳定性与高耐久性。
典型参数：
纯度： 99.9%（3N）
化学体系： W–In–O 复合氧化物
尺寸： Φ25–300 mm，可定制矩形靶
厚度： 3–6 mm
密度： ≥ 90–95% 理论密度（TD）
制造工艺： CIP 冷等静压 + 高温固相烧结
可选工艺： HIP 热等静压（进一步增密）
外观： 深灰或灰黑陶瓷质感
背板（可选）： Cu / Ti / Mo + Indium Bonding（提升散热与抗裂能力）
高成分均匀性：薄膜化学计量比稳定，不易偏析
良好的导电–光学平衡特性：适用于 TCO 与光电膜
高致密度结构：支持高功率溅射，减少掉块风险
薄膜大面积均匀性优越
适配 RF、DC、脉冲溅射
WInO 溅射靶材广泛应用于：
透明导电薄膜（TCO）
电致变色薄膜（Electrochromic Films）
光电传感器薄膜
智能窗膜与节能玻璃
气敏薄膜（H₂、NO₂、VOC 等）
储能/电催化功能薄膜
光学滤光膜、功能保护膜
显示器用光电功能膜
由于钨氧化物具备变色性能（electrochromism），铟氧化物具备良好的透明导电性，WInO 在智能玻璃、光电器件、电致调光产品中具有强应用潜力。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%（3N） | 薄膜稳定性与光电性能更好 |
| 尺寸 | Φ25–300 mm | 适配各类溅射系统 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速度与寿命 |
| 密度 | ≥ 90–95% TD | 决定薄膜致密度和均匀性 |
| 工艺 | CIP + 烧结 / HIP | 提升靶材强度、避免裂纹 |
| 背板 | Cu / Ti / Mo + 铟焊 | 增强散热、降低热应力 |
| 溅射方式 | RF / DC | RF 更适合氧化物成膜 |
| 材料 | 特性 | 应用 |
|---|---|---|
| WInO | 透明导电 + 电致变色 | TCO、智能玻璃、光电薄膜 |
| WO₃ | 强电致变色性能 | 智能窗、变色电极 |
| In₂O₃ | 高透光率、良好导电性 | TCO、电极层 |
| ITO（In₂O₃:SnO₂） | 商用透明导电膜 | 显示器、触控面板 |
| 问题 | 回答 |
|---|---|
| WInO 可以作为透明导电膜吗？ | 可以，在合适成膜条件下可兼具导电性与透光率。 |
| 成膜是否需要氧气？ | 建议在 Ar/O₂ 混合气氛下沉积以维持氧化态。 |
| 是否适用于电致变色器件？ | 是，WInO 薄膜具有电化学变色能力。 |
| 是否可以 DC 溅射？ | 可以，但 RF 更利于薄膜均匀性。 |
| 大尺寸靶材是否需要背板？ | 是，大尺寸强烈建议搭配 Cu / Ti 背板。 |
| 薄膜光学性能可调吗？ | 可通过 O₂ 比例、功率与退火调控。 |
| 储存方式？ | 干燥、避光、防潮，避免机械冲击。 |
所有 WInO 靶材采用：
真空密封
防静电袋
高密度泡沫缓冲
外层出口级纸箱/木箱
并附唯一追踪编号，确保运输过程安全可控。
氧化钨铟（WInO）靶材是一类兼具透明导电性、电致变色能力及优异化学稳定性的功能性复合氧化物材料，广泛应用于 TCO 薄膜、智能窗、光电器件和传感器等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高致密度、高纯度并支持定制化的 WInO 溅射靶材，是科研与产业薄膜制备的优质选择。
如需报价或技术资料，请联系：
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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