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氧化钛（TiO₂）靶材是一类广泛应用于半导体、光学镀膜、光催化、能源器件及功能薄膜制备的关键材料。凭借其优异的介电特性、高折射率、化学稳定性和可控薄膜光学特性，TiO₂ 被视为高端薄膜工艺中不可或缺的溅射靶材之一。
在磁控溅射和离子束溅射工艺中，TiO₂ 靶材能够形成具有高致密度、优良附着力及低缺陷密度的薄膜，从而提升光学透过率、电介质性能及环境耐久性。
我司可提供不同纯度（99.9%–99.99%）、密度、晶型及背板结合方式的 TiO₂ 溅射靶材，常见形式包括圆形靶、矩形靶和阶梯靶。
主要规格与特性：
纯度： 99.9% (3N) – 99.99% (4N)
尺寸范围： 直径 25–300 mm，可按需定制
厚度： 3–6 mm
制造工艺： 热压烧结、冷等静压（CIP）/热等静压（HIP）
密度： ≥ 95% 理论密度，保证溅射稳定性
背板（可选）： Cu / Ti / Mo / In-bonding
高致密度结构：减少薄膜缺陷，提高耐蚀性和机械强度。
光学性能可控：适用于高折射率光学膜、AR/IR膜和滤光片。
介电性能优异：适用于 DRAM、薄膜电容、阻挡层等器件。
热稳定性强：降低溅射过程中的开裂与脱靶风险。
背板热管理优化：采用铜或钛背板提升散热效率，延长使用寿命。
TiO₂ 靶材可用于多种高端薄膜制备工艺，包括：
半导体薄膜：介电层、阻挡层、钛酸盐功能膜
光学镀膜：AR 增透膜、高折射率膜、干涉滤光片、光学窗口
显示技术：TFT 液晶屏、OLED 显示、光学层结构
光催化领域：光催化薄膜、抗菌涂层、UV 响应膜
太阳能电池：钙钛矿太阳能电池、DSSC 染料敏化电池
科研实验：用于真空镀膜、基础材料研究、多层复合结构
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 纯度越高，薄膜缺陷越少 |
| 直径 | 25–300 mm | 适配主流溅射设备（DC/RF） |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响膜层沉积速率与靶寿命 |
| 密度 | ≥ 95% 理论密度 | 提高膜层均匀性与稳定性 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Indium Bond | 提升散热与结合强度 |
| 工艺 | CIP / HIP / 烧结 | 决定靶材致密度与稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| TiO₂ | 高折射率、介电性能优异 | 光学膜、电介质膜 |
| Al₂O₃ | 高硬度与绝缘性能良好 | 保护层、介电层 |
| SiO₂ | 低折射率、高稳定性 | 光学增透膜、绝缘层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 适合哪些溅射方式？ | 可用于 DC、RF、脉冲溅射系统。 |
| TiO₂ 薄膜主要性能？ | 高折射率、高介电常数、良好光透过率与化学稳定性。 |
| 是否适合光学镀膜？ | 是，尤其适合高折射率光学结构。 |
| 可否实现掺杂薄膜？ | 可以，常与 ZnO、Al₂O₃、SiO₂ 共溅射。 |
| 是否需要背板？ | 大尺寸靶材建议使用 Cu/Ti 背板增强散热与强度。 |
| 可应用于钙钛矿太阳能电池吗？ | 是，TiO₂ 是常用电子传输层材料。 |
| 薄膜应力可控吗？ | 通过功率、压强与基底温度可调控。 |
| 可否做成非圆形靶？ | 支持矩形靶、阶梯靶、定制靶。 |
| 是否易开裂？ | 高致密度 HIP 工艺可显著降低风险。 |
| 储存要求是什么？ | 密封干燥环境，避免机械冲击。 |
所有 TiO₂ 靶材均采用真空包装，并附唯一追踪编码。外层使用防震泡沫与出口级木箱包装，确保运输过程中的安全与洁净度。
氧化钛靶材凭借稳定的介电特性和光学性能，是高端薄膜制备的重要基础材料。苏州科跃材料科技有限公司可根据客户需求提供定制尺寸、不同密度等级及多种背板结合方式的 TiO₂ 溅射靶材，满足科研与工业生产的多种应用场景。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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