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氧化钕靶材（NdO）是钕元素的氧化物，具有优异的光学性能和热稳定性，广泛应用于激光增益材料、光电设备、气敏传感器和电子材料等领域。氧化钕的高折射率和较强的电磁性能使其在高性能光电器件和磁性薄膜中发挥着重要作用。氧化钕靶材在激光器、光纤放大器、光学涂层等高科技领域有着重要的应用。
作为一种重要的稀土金属氧化物，氧化钕不仅具有优良的光学特性，还具有较高的热稳定性，适合在高温环境下使用，广泛应用于光学薄膜和光电器件的制造。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化钕靶材（NdO）采用高纯度钕金属原料，通过冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）或高温烧结（Hot Pressing）工艺制备而成，确保靶材的高纯度和均匀性。我们的氧化钕靶材适用于多种薄膜沉积需求，包括激光增益介质、光学薄膜、气敏传感器等领域。
常规规格：
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化
背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）
高纯度材料 → 确保薄膜的高质量，减少杂质污染
优异的光学性能 → 高折射率，适用于激光增益介质和光学薄膜
良好的热稳定性 → 适用于高温薄膜沉积过程
均匀微观结构 → 保证薄膜的稳定性和电学性能
氧化钕靶材广泛应用于以下领域：
激光增益材料：广泛应用于高功率激光器、光纤激光器等
光纤通讯：用于光纤放大器和其他高性能光纤器件
光学薄膜：用于反射膜、抗反射膜、透明导电膜等
气敏传感器：用于气体传感器、环境监测传感器等
高温薄膜：适用于高温环境中的薄膜制备和保护层
磁性材料：用于制造磁性薄膜和高效能磁电器件
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度保证薄膜质量 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 提升薄膜的稳定性和致密度 |
| 尺寸 | 直径 25–300 mm | 适配多种溅射设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可根据需求定制 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热与稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| NdO | 高折射率、良好的光学性能 | 激光增益材料、光纤通讯、气敏传感器 |
| YbO | 激光增益材料、优良的光学特性 | 光纤激光器、红外光学 |
| Er₂O₃ | 激光增益介质、良好的光学性能 | 激光器、光纤放大器 |
| SmO | 较高的折射率和热稳定性 | 激光增益材料、光纤通讯 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| NdO 靶材适用于哪些溅射方法？ | NdO 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。 |
| 氧化钕靶材的主要用途有哪些？ | 主要用于激光增益材料、光纤放大器、光学薄膜等。 |
| 该靶材的光学性能如何？ | 氧化钕靶材具有优异的光学性能，适用于激光和光纤通讯设备。 |
| 高温下是否稳定？ | 是的，氧化钕靶材具有良好的热稳定性，适用于高温薄膜沉积。 |
| 该靶材是否适用于柔性基板？ | 是的，氧化钕薄膜适用于柔性基板的应用。 |
| 是否提供定制规格？ | 可以，提供定制尺寸、厚度和背板选项，满足不同溅射需求。 |
| 是否提供质量报告？ | 每批次产品附带详细的质量检测报告，确保质量稳定。 |
每个靶材都采用真空密封包装
防震泡沫保护，确保运输安全
出口级木箱包装，适合长途运输
每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告
氧化钕靶材（NdO）凭借其优异的光学性能、热稳定性和化学稳定性，广泛应用于激光器、光纤通讯和光学薄膜等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格定制的氧化钕靶材，满足各类工业和科研需求。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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