氧化钐镍靶材（SmNiO）

产品简介（Introduction）

氧化钐镍（SmNiO）是一类重要的稀土镍氧化物靶材，属于著名的镍酸稀土（RNiO₃）体系。SmNiO 薄膜以其显著的金属–绝缘转变（Metal–Insulator Transition, MIT）、可调电阻特性、强关联电子行为以及独特的光电响应而受到科研界的广泛关注。

因其电阻率随温度、应力或外场可显著调控，SmNiO 常用于新型电子器件、神经形态计算（Neuromorphic Computing）、敏感薄膜、高级逻辑材料与基础物性研究，是先进电子材料领域的核心研究对象之一。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的 SmNiO 溅射靶材，通过精准控制粉末配比、晶相纯度及烧结条件，确保靶材在长时间溅射过程中的稳定性与成膜一致性。

典型规格参数：

• 纯度： 99.9%（3N）

• 尺寸： Φ25–300 mm，可定制矩形靶

• 厚度： 3–6 mm

• 密度： ≥ 90–95% TD

• 制造工艺： CIP 等静压 + 高温固相烧结

• 可选工艺： HIP 热等静压（进一步提升致密度）

• 外观： 深灰黑陶瓷质感，结构紧密

• 背板（可选）： Cu / Ti / Mo + Indium Bonding（增强散热能力）

材料与工艺优势

• 高一致性化学计量比：确保 Sm:Ni:O 元素成膜比例稳定

• 高致密度降低溅射异常：减少掉块、崩边、局部泄露现象

• 表面平整度优异：可获得更加均匀致密的功能薄膜

• 适用多工艺：兼容 RF、DC、脉冲溅射

• 适合复杂氧化物薄膜生长：如外延膜、多层结构等

应用领域（Applications）

SmNiO 溅射靶材在先进电子材料研究中具有广泛应用，包括：

• 金属–绝缘转变（MIT）薄膜研究

• 神经形态计算材料（Artificial Synapse Films）

• 可调电阻薄膜 / RRAM 原型器件

• 强关联电子体系研究（Correlated Oxides）

• 温敏 / 应力敏感薄膜材料

• 光电响应薄膜与探测器材料

• 多层异质结构及调控薄膜

SmNiO 的 MIT 行为与稀土离子半径及晶体结构密切相关，是探索电子相互作用、非线性电阻、类脑计算材料的重要平台。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有 SmNiO 靶材均采用：

• 真空密封

• 防静电袋

• 高密度泡沫缓冲

• 外层出口级纸箱或木箱
  并附唯一批次编号，确保全程可追溯与运输安全。

结论（Conclusion）

氧化钐镍（SmNiO）靶材以其独特的强关联电子特性和显著的 MIT 行为，广泛应用于类脑计算、电阻薄膜、光电材料及先进电子器件研究。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度并支持全尺寸定制的 SmNiO 溅射靶材，是科研机构与实验室的理想选择。

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