氧化钐铜靶材(SmCuO)

氧化钐铜靶材(SmCuO)

产品简介(Introduction)

氧化钐铜靶材(SmCuO)是一类重要的稀土过渡金属氧化物靶材,因其独特的电子结构与可调控的光、电、磁性能,在薄膜超导、氧化物电子学、光电器件及先进功能材料研究中具有广泛应用。SmCuO 在溅射沉积中可形成结构稳定、成分均匀的氧化物薄膜,适用于多层结构、界面工程与材料调控领域。

高纯度 SmCuO 靶材通常采用精细粉体、高温固相烧结和精密研磨工艺制备,能够确保薄膜沉积的稳定性和重复性,是科研机构和先进制造企业的重要材料。


产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯氧化钐铜靶材,支持多种尺寸、形状和背板定制。靶材通过冷等静压(CIP)成型、高温烧结及表面精磨处理,实现高致密度与优良的成分均匀性。

  • 纯度范围: 99.9%–99.99%

  • 尺寸规格: Ø25–Ø300 mm,可定制矩形靶、阶梯靶、分割靶

  • 厚度范围: 3–6 mm(可按要求定制)

  • 制造工艺: CIP 成型 + 高温烧结 + 精研抛光

  • 背板选项: 铜背板 / 钛背板 / 铟焊结合

    • 帮助提高散热性能,减少翘曲,提高溅射稳定性

工艺优势:

  • 高致密结构减少溅射颗粒(droplets)

  • 均匀的成分配比有助于薄膜呈现稳定的电学与结构特性

  • 低空隙率确保更高的利用率和更长的靶材寿命


应用领域(Applications)

氧化钐铜(SmCuO)因其特殊的电子结构,在多种先进薄膜领域具有应用价值:

  • 氧化物电子学(Oxide Electronics)

    • 功能氧化物薄膜

    • 多铁性材料研究

  • 薄膜超导材料(Superconducting Films)

    • 参与铜氧化物体系的调控研究

  • 光学镀膜(Optical Coatings)

    • 可用于特定波段的吸收或调制材料

  • 多层界面工程(Interface Engineering)

    • 外延生长、界面调控、异质结构材料

  • 新能源与催化研究

    • 氧催化、光催化薄膜制备

  • 科研与高等院校实验

    • RF/DC 磁控溅射

    • PVD 涂层

    • 材料科学基础研究


技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.9% – 99.99% 纯度越高,薄膜缺陷更少、成分更稳定
密度 ≥ 90% 理论密度 提高薄膜均匀性与致密度
尺寸 Ø25–300 mm 兼容主流磁控溅射系统
厚度 3–6 mm 影响沉积速率与靶材寿命
背板 Cu / Ti / In 焊接 提高散热效率、减少热应力
工艺 CIP + 烧结 + 精磨 获得高致密、结构稳定靶材

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型用途
SmCuO 稀土–过渡金属氧化物,具可调控的电磁特性 功能薄膜、超导材料研究
Sm₂O₃ 典型稀土氧化物,高折射率、化学稳定性强 光学薄膜、陶瓷材料
CuO 常见半导体氧化物 光电薄膜、催化研究

常见问题(FAQ)

问题 答案
SmCuO 靶材适用于哪些溅射方式? 适用于 RF、DC、脉冲 DC 等多种磁控溅射工艺。
该靶材在薄膜沉积中的主要作用是什么? 用于制备功能氧化物薄膜,实现可调控的电学、磁学或光学特性。
可否与其他氧化物靶材共溅射? 可以,与 Sm₂O₃、CuO、YBCO 系列靶材共溅射较常见。
SmCuO 薄膜易裂纹吗? 使用致密靶材及良好背板粘接可减少应力积累。
靶材表面是否容易掉渣? 采用高密度烧结和精磨加工可有效避免颗粒问题。
可否定制不同 Cu:Sm 配比? 可以,根据科研需求提供特殊化学计量。
薄膜的电学性能可调吗? 可通过氧分压、基底温度、溅射功率调控。
是否可以外延生长? 具备外延潜力,具体视基底与工艺条件而定。
是否支持阶梯靶、平面靶? 都支持,并可定制特殊结构。
是否适用于大面积镀膜? 可提供大尺寸靶材,适合中试或量产设备。

包装与交付(Packaging)

所有 SmCuO 靶材均通过严格的密度、纯度、尺寸与显微结构检测。
包装采用真空密封、防震泡沫及出口级木箱,确保运输过程稳定、安全、无污染。


结论(Conclusion)

氧化钐铜靶材(SmCuO)是先进功能材料研究与氧化物电子学应用的重要靶材之一。其优异的稳定性、可控的成分结构与定制化加工能力,使其成为科研实验和高端薄膜制备的理想选择。

如需了解更多技术规格或获取报价,请联系:
sales@keyuematerials.com