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氧化钌靶材（RuO）是一类重要的过渡金属氧化物靶材，具有优异的电化学稳定性、高导电性、良好的催化性能以及较高的热稳定性。Ru–O 氧化物体系通常在导电薄膜、电催化、电极材料、光电薄膜以及先进功能膜领域具有关键作用。
由于氧化钌薄膜在高温环境、强腐蚀环境及电化学反应中表现出极高的耐久性与稳定性，RuO 靶材常用于研发电极涂层、透明导电膜、传感器薄膜、水裂解催化膜等高端应用。
苏州科跃材料科技有限公司生产的 RuO 溅射靶材通过严格控制粉体纯度、粒径分布及烧结条件，确保靶材具有高致密度、化学稳定性和优异的溅射性能。
典型规格参数：
纯度： 99.9%（3N）
尺寸： Φ25–300 mm，矩形靶可定制
厚度： 3–6 mm
密度： ≥ 90–95% 理论密度（TD）
工艺： CIP 等静压成型 + 高温固相烧结
可选工艺： HIP 热等静压以获得更高致密度
外观： 深灰蓝陶瓷质感
背板（可选）： Cu / Ti / Mo + Indium bonding（增强散热与抗热冲击能力）
卓越的化学稳定性：适用于氧化还原反复循环的沉积环境
膜层一致性高：成分漂移小，适用于精密电子器件
高致密度结构：减少气孔，提高膜层均匀性
适配 RF 与 DC 过程：成膜稳定性好、速率可控
适用于高温沉积与后退火处理
氧化钌靶材广泛用于以下相关领域的薄膜制备：
电极薄膜（Electrode Films）
电催化薄膜（如 OER 催化层）
透明导电氧化物（TCO）复合膜
传感器薄膜（气敏/化学敏感层）
光电功能薄膜
抗腐蚀涂层
高温稳定薄膜结构
科研与物性调控研究
RuO 的稳定性使其常用于电化学、水裂解电极、腐蚀环境电子器件及结构敏感型薄膜的制造。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%（3N） | 降低薄膜杂质，提高电化学稳定性 |
| 尺寸 | Φ25–300 mm | 通用兼容 RF/DC 溅射腔体 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响靶材寿命和沉积速率 |
| 密度 | ≥ 90–95% TD | 决定薄膜致密性与一致性 |
| 制备工艺 | CIP + 烧结 / HIP | 确保靶材强度和抗裂性能 |
| 背板连接 | Cu / Ti / Mo + Indium | 增强散热、避免热应力破裂 |
| 适用设备 | DC / RF 溅射 | 适用于科研及产业化制程 |
| 材料 | 特性 | 应用领域 |
|---|---|---|
| RuO | 高稳定性、耐腐蚀、良好电催化性能 | 电极膜、催化膜、TCO 复合膜 |
| Ru（金属）靶材 | 高导电性 | 电极层、互连线 |
| IrO₂ | 电催化性能高、耐腐蚀性强 | 水裂解催化、电极材料 |
| SnO₂ | 透明导电氧化物 | 光电薄膜、TCO 层 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| RuO 靶材适合 RF 还是 DC？ | 两者均可，RF 更适合获得稳定均匀膜层。 |
| RuO 溅射时会还原吗？ | 低氧气氛下可能部分还原，建议调节氧分压保持成分稳定。 |
| 可否用于电极研发？ | 是，RuO 是高性能电极材料研究的核心材料之一。 |
| 是否需要背板？ | 大尺寸靶材建议 Cu/Ti 背板以增强散热与机械稳定性。 |
| 储存方式？ | 干燥环境即可，避免受潮与机械损伤。 |
| 是否可用于透明导电膜？ | 可作为复合薄膜结构的一部分，与 SnO₂、In₂O₃ 等组合应用。 |
| 成膜电阻率稳定吗？ | 在适当氧分压与温度条件下具有极高稳定性。 |
所有 RuO 靶材均采用：
真空密封包装
防静电袋
高密度缓冲材料
外层出口级木箱/纸箱
并附唯一的追踪编号，确保产品在运输中的安全与可追溯性。
氧化钌靶材（RuO）具有极高的化学稳定性、电催化性能和热稳定性，是高端电极薄膜、光电材料、传感器薄膜与结构功能膜研发中的重要材料。苏州科跃材料科技有限公司为科研机构与企业提供高致密度、高纯度、可定制的 RuO 溅射靶材，适配各类真空镀膜系统。
如需询价或更多技术信息，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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