氧化钇蒸发材料(Y₂O₃)

氧化钇蒸发材料(Yttrium Oxide Evaporation Material, Y₂O₃)是一种高熔点、高化学稳定性、优异光学与介电性能的稀土氧化物蒸发材料,在光学镀膜、半导体工艺、高温防护涂层及先进材料科研中被广泛采用。Y₂O₃ 薄膜具有良好的透明性、低吸收损耗和稳定的介电特性,尤其适合用于高可靠性功能薄膜与界面工程

在真空蒸发与 PVD 工艺中,高纯氧化钇能够实现稳定、可重复的沉积行为,是多种高端氧化物薄膜体系中的基础材料之一。

产品详情(Detailed Description)

氧化钇蒸发材料采用高纯 Y₂O₃ 粉体为原料,经精确成形与高温烧结制备,确保材料致密、化学计量稳定,并适用于高真空和高能束流沉积条件。

  • 化学组成:Y₂O₃

  • 纯度范围:99.9% – 99.99%(3N–4N)

  • 材料形态:块状、颗粒状、定制尺寸

  • 制造工艺:高纯粉体 → 成形 → 高温烧结

  • 表面状态:致密、低吸附,适合高真空蒸发

高质量 Y₂O₃ 蒸发材料有助于:

  • 提升薄膜致密度与结构一致性;

  • 保证光学与介电性能稳定;

  • 降低蒸发过程中的成分波动;

  • 延长蒸发源与设备使用寿命。

应用领域(Applications)

  • 光学镀膜:高折射率层、保护层、功能光学薄膜

  • 半导体与电子:绝缘层、缓冲层、界面工程

  • 高温与防护涂层:耐热、耐腐蚀功能氧化物层

  • 功能陶瓷与复合薄膜:稳定稀土氧化物薄膜

  • 科研实验:稀土氧化物物性与薄膜结构研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
化学组成 Y₂O₃ 决定薄膜性能
纯度 99.9% – 99.99% 降低杂质缺陷
形态 块状 / 颗粒 / 定制 适配不同蒸发源
熔点 ~2430 °C 适合高温蒸发
适用工艺 电子束蒸发 / 高温热蒸发 高熔点氧化物优选
包装方式 真空密封 防止吸湿与污染

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
氧化钇(Y₂O₃) 高稳定性、低吸收 光学与介电薄膜
氧化锆(ZrO₂) 高强度 高温与光学薄膜
氧化钇锆(YSZ) 相稳定、离子导电 能源与电解质层
氧化铝(Al₂O₃) 工艺成熟 通用保护涂层

常见问题(FAQ — 聚焦应用)

Q1:Y₂O₃ 蒸发材料适合哪种蒸发方式?
A:推荐电子束蒸发,也可用于高温热蒸发工艺。

Q2:Y₂O₃ 薄膜的主要优势是什么?
A:具有良好的光学透明性、介电稳定性与耐高温性能。

Q3:是否适合光学应用?
A:非常适合,常用于高端光学镀膜与保护层。

Q4:Y₂O₃ 薄膜容易吸湿吗?
A:薄膜本身稳定,但材料与成膜过程需避免吸湿。

Q5:是否可用于复合氧化物薄膜?
A:可以,常作为掺杂或稳定相材料使用。

Q6:颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗?
A:会,均匀尺寸有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。

Q7:是否适合科研级应用?
A:非常适合,是稀土氧化物研究中的常用材料。

Q8:材料如何储存?
A:建议真空密封保存,避免吸湿和污染。

Q9:是否支持定制规格?
A:支持,可根据蒸发设备与工艺需求定制。

Q10:与 YSZ 有何主要区别?
A:YSZ 侧重离子导电与相稳定,Y₂O₃ 更偏向光学与介电应用。

包装与交付(Packaging)

所有氧化钇蒸发材料在出厂前均经过严格检测并建立批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装,确保运输与储存过程中材料的洁净度与性能稳定。

结论(Conclusion)

氧化钇蒸发材料(Y₂O₃)以其优异的化学稳定性、高温性能和出色的光学与介电特性,在光学镀膜、电子器件及高端科研领域中具有长期可靠的应用价值。对于追求高一致性、高可靠性与高性能的薄膜沉积需求,Y₂O₃ 是一种成熟且值得信赖的稀土氧化物蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价,请联系:
sales@keyuematerials.com