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氧化钆靶材（GdO）是一种稀土金属氧化物，具有优异的光学性能、热稳定性和化学稳定性，广泛应用于激光增益材料、光学涂层、气敏传感器和高温薄膜等领域。氧化钆靶材常用于高性能光电器件和磁性材料的制造，在半导体、光学材料以及磁性材料中发挥着重要作用。
氧化钆靶材的高折射率和优异的热稳定性使其成为高端薄膜沉积工艺中的理想材料，尤其适用于激光器、光纤通讯和光学薄膜等领域。
苏州科跃材料科技有限公司提供的氧化钆靶材（GdO）采用高纯度的钆金属原料，经过冷等静压（CIP）、热等静压（HIP）或高温烧结（Hot Pressing）工艺制备而成，确保靶材具有高纯度和均匀性。我们的氧化钆靶材适用于光学薄膜、激光增益介质、气敏材料等领域，能够提供高质量的薄膜，满足多种薄膜沉积需求。
常规规格：
纯度（Purity）：99.9%（3N）– 99.99%（4N）
尺寸（Size）：直径 25–300 mm，厚度 3–6 mm（可定制）
密度（Density）：≥ 98% 理论密度（T.D.）
工艺（Process）：CIP 成型 + 热压烧结（Hot Pressing）/ HIP 致密化
背板结合（Bonding）：Cu / Ti / Mo 背板，铟焊（In Bonding）
高纯度材料 → 提供高质量薄膜，减少杂质污染
优异的光学性能 → 高折射率，适用于激光增益材料和光学薄膜
良好的热稳定性 → 适用于高温薄膜沉积过程
均匀微观结构 → 保证薄膜的稳定性和电学性能
氧化钆靶材广泛应用于以下领域：
激光增益材料：广泛应用于高功率激光器、光纤激光器等
光纤通讯：用于光纤放大器和其他高性能光纤器件
光学薄膜：用于反射膜、抗反射膜、透明导电膜等
气敏传感器：用于气体传感器、环境监测传感器等
高温薄膜：适用于高温环境中的薄膜制备和保护层
磁性材料：用于制造磁性薄膜和高效能磁电器件
| 参数 | 典型值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度保证薄膜质量 |
| 密度 | ≥ 98% T.D. | 提升薄膜稳定性 |
| 尺寸 | 直径 25–300 mm | 适配多种溅射设备 |
| 厚度 | 3–6 mm | 可根据需求定制 |
| 背板结合 | Cu / Ti / Mo / In | 提升散热与稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| GdO | 高折射率、优异的光学性能 | 激光增益材料、光纤通讯、气敏传感器 |
| Y₂O₃ | 高光学稳定性、较高的光学透过率 | 激光增益材料、光学薄膜 |
| DyO | 高折射率和热稳定性 | 激光增益材料、光纤通讯 |
| SmO | 较高的光学性能和热稳定性 | 激光增益材料、气敏传感器 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| GdO 靶材适用于哪些溅射方法？ | GdO 靶材适用于 RF 磁控溅射和 DC 溅射。 |
| 氧化钆靶材的主要用途有哪些？ | 主要用于激光增益材料、光纤放大器、光学薄膜等。 |
| 该靶材的光学性能如何？ | 氧化钆靶材具有优异的光学性能，适用于激光增益材料和光纤通讯设备。 |
| 高温下是否稳定？ | 是的，氧化钆靶材具有良好的热稳定性，适用于高温薄膜沉积。 |
| 该靶材是否适用于柔性基板？ | 是的，氧化钆薄膜适用于柔性基板的应用。 |
| 是否提供定制规格？ | 可以，提供定制尺寸、厚度和背板选项，满足不同溅射需求。 |
| 是否提供质量报告？ | 每批次产品附带详细的质量检测报告，确保质量稳定。 |
每个靶材都采用真空密封包装
防震泡沫保护，确保运输安全
出口级木箱包装，适合长途运输
每个靶材附带唯一批次号和质量检测报告
氧化钆靶材（GdO）凭借其优异的光学性能、热稳定性和化学稳定性，广泛应用于激光器、光纤通讯和光学薄膜等领域。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高密度、多规格定制的氧化钆靶材，满足各类工业和科研需求。
如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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