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氧化钆铈靶材(GdCeO)是一种由稀土钆(Gd)与铈(Ce)构成的功能氧化物材料,具有优良的高温稳定性、离子电导率、化学均匀性与薄膜兼容性。Gd–Ce–O 体系常用于制备固体氧化物燃料电池(SOFC)电解质薄膜、透明功能薄膜、氧化物电子学材料、界面工程层及多层结构薄膜。
Gd 掺杂 CeO₂(GDC)是最典型的氧化物离子导体材料之一,能够显著提升氧离子电导率,是制备高性能电化学薄膜的重要靶材。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密、高稳定性的 GdCeO 溅射靶材,采用高纯前驱物结合冷等静压(CIP)、高温烧结及精密研磨工艺,确保靶材成分稳定、结构致密、表面平整,适用于各类真空镀膜设备。
产品规格:
纯度: 99.9%(3N)– 99.99%(4N)
尺寸范围: Ø25–Ø300 mm(可定制)
厚度: 3–6 mm
化学计量比: Gd:Ce 比例可定制,如 GDC10(Ce₀.₉Gd₀.₁O₂₋δ)、GDC20、GDC30 等
制造工艺: CIP 成型 + 高温固相烧结 + 精磨
背板: Cu / Ti / In 焊接可选
外观特征: 浅灰至深灰陶瓷表面,高致密、均匀无裂纹
性能优势:
高密度靶材提升薄膜均匀性与致密度
良好热稳定性,适合高温沉积环境
结构可调对薄膜电导率与扩散行为更友好
RF / DC / 脉冲溅射兼容性强
电解质层(GDC 薄膜)
阻挡层与界面过渡层
高离子电导率氧化物结构
透明电子学薄膜
光学调控膜
抗反射与干涉膜结构
功能性界面层
多层结构中的缓冲层
电阻开关(ReRAM)薄膜
氧空位调控氧化物体系
气敏检测薄膜材料
作为 perovskite、fluorite 结构的匹配层
多层叠层薄膜的结构调控
| 参数 | 数值 / 范围 | 说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9%–99.99% | 提升薄膜的电学及化学稳定性 |
| 密度 | ≥ 90% 理论密度 | 减少溅射时颗粒并提高膜层致密性 |
| 尺寸 | Ø25–Ø300 mm | 适配各种真空溅射腔体 |
| 厚度 | 3–6 mm | 影响溅射速率与使用寿命 |
| 成分比 | Gd:Ce 可定制 | 决定氧离子导、电学与结构性能 |
| 背板 | Cu / Ti / 铟焊 | 提升散热效率与机械稳定性 |
| 工艺 | CIP + 烧结 + 精密研磨 | 确保表面平整与内部均匀性 |
| 材料 | 优势 | 应用 |
|---|---|---|
| GdCeO(GDC) | 高氧离子电导率、稳定性强 | SOFC 电解质、界面层 |
| YSZ | 机械强度高、成熟度高 | SOFC、热障涂层 |
| CeO₂ | 清洁透明度高、稳定性好 | 光学薄膜、催化薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| GdCeO 属于哪类材料? | 属于掺杂氧化物离子导体与功能陶瓷材料。 |
| Gd:Ce 比例可以定制吗? | 可以,如 GDC10、GDC20 等常用比例均可制备。 |
| 适用于哪种溅射方式? | RF、DC、脉冲 DC 全兼容。 |
| 薄膜是否需要高温退火? | 多数情况下需要以增强离子电导率与致密度。 |
| 是否需要背板? | 大尺寸(>8 英寸)建议使用 Cu/Ti 背板提升散热。 |
| 是否适用于外延薄膜? | 具有良好晶格匹配性,常用于界面调控。 |
| 保存是否需要氮气? | 常温干燥环境即可,无需特殊气体。 |
| 是否提供分析数据? | 可提供 XRD、SEM、EDS、密度测试等。 |
| 能否做阶梯靶? | 支持阶梯、环形、矩形等多种加工形式。 |
| 是否可用于催化薄膜? | 可用于与氧空位相关的催化体系研究。 |
所有 GdCeO 靶材均经过:
纯度检测
密度与孔隙率测试
成分分析(EDS)
XRD 结构确认
尺寸与平整度校准
并采用:
真空密封
防震泡沫
出口级木箱包装
确保洁净、安全运输。
氧化钆铈靶材(GdCeO)因其优异的氧离子导电性、结构稳定性与多领域兼容性,是 SOFC、电学功能薄膜、界面工程与氧化物电子学研究的关键材料。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯、高致密、可定制的 GdCeO 靶材,可满足科研与工业薄膜制备需求。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属(3N~6N)、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案,服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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