氧化硅蒸发材料（SiO）

产品详情（Detailed Description）

氧化硅蒸发材料采用高纯硅源与受控氧化工艺制备，经致密化处理以满足高真空蒸发需求。材料具有良好的热稳定性与可控蒸发行为，适合连续稳定沉积。

• 化学组成：SiO（氧化亚硅）

• 纯度范围：99.9% – 99.99%（3N–4N）

• 材料形态：块状、颗粒状、定制尺寸

• 制造工艺：受控氧化 + 高温烧结

• 表面状态：致密、低吸附，适合高真空蒸发

高质量 SiO 蒸发材料可有效：

• 提高蒸发稳定性与沉积效率；

• 改善薄膜致密度与附着力；

• 降低针孔与颗粒缺陷；

• 满足光学与电子器件对薄膜一致性的要求。

应用领域（Applications）

• 光学镀膜：增透膜、反射膜、保护层

• 电子与半导体：绝缘层、钝化层、界面工程

• 真空与封装技术：密封涂层、功能介质层

• 显示与光电子：功能氧化物薄膜

• 科研实验：薄膜结构、应力与成分调控研究

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ — 聚焦应用）

Q1：SiO 蒸发材料适合哪种蒸发方式？
A：适用于热蒸发与电子束蒸发，尤其常用于光学镀膜。

Q2：SiO 与 SiO₂ 的主要区别是什么？
A：SiO 蒸发温度更低、成膜更致密；SiO₂ 更稳定但蒸发难度更高。

Q3：SiO 薄膜是否稳定？
A：在真空或封装条件下稳定，也可通过后处理转化为 SiO₂。

Q4：SiO 薄膜的附着力如何？
A：附着力优良，适合多种基底材料。

Q5：是否适合光学应用？
A：非常适合，是经典的光学蒸发材料之一。

Q6：颗粒尺寸会影响蒸发稳定性吗？
A：会，均匀颗粒有助于稳定蒸发速率与膜厚控制。

Q7：是否适合科研级应用？
A：非常适合，广泛用于薄膜与光学研究。

Q8：材料如何储存？
A：建议真空密封保存，避免吸湿与氧化态变化。

Q9：是否支持定制规格？
A：支持，可根据蒸发设备与工艺需求定制。

Q10：是否可提供 SiO₂ 或其他硅氧化物？
A：可提供 SiO₂ 及多种硅基氧化物蒸发材料。

包装与交付（Packaging）

所有氧化硅蒸发材料（SiO）在出厂前均经过严格质量检测，并建立完整批次追溯体系。产品采用真空密封、防震缓冲及出口级包装，确保运输与储存过程中材料洁净度与性能稳定。

结论（Conclusion）

氧化硅蒸发材料（SiO）凭借其低蒸发温度、高成膜质量与优良的工艺适配性，在光学镀膜、电子器件及功能薄膜领域中具有长期稳定的应用价值。对于追求高致密度、高附着力与高一致性的薄膜沉积需求，SiO 是一种成熟、可靠且性价比突出的蒸发材料选择。

如需了解更多技术参数或获取报价，请联系：
sales@keyuematerials.com