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氟化镱（YbFₓ，常见为 YbF₃）是一种重要的稀土氟化物材料，具有低声子能量、优异的光学透明性、良好的化学稳定性和较低的折射率。得益于镱元素独特的电子结构，YbF 薄膜在光学镀膜、激光器件、红外窗口、光通信以及功能介质层中具有重要应用价值。
作为磁控溅射靶材，氟化镱可稳定沉积高均匀性、低吸收、低应力的氟化物薄膜，广泛应用于科研级光学薄膜、激光系统与高端光电器件制造。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯氟化镱原料，通过冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）、真空烧结与精密加工等工艺制备 YbF 靶材，确保材料具有良好的致密度、稳定的溅射性能和可重复的薄膜质量。
化学形态：YbF₃（主流规格），其他氟化态可定制
纯度等级：99.9% – 99.99%（3N–4N）
尺寸范围：Ø25–300 mm
厚度范围：3–10 mm
致密度：≥ 90–95%（氟化物材料典型水平）
制造工艺：CIP / HP / HIP / 真空烧结
背板选择：Cu / Ti 背板（铟焊或扩散焊）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、多段靶
高光学透明性，适合光学与激光薄膜
低吸收、低散射，薄膜损耗小
稀土氟化物特性，声子能量低
化学稳定性好，适用于复杂真空环境
高致密度工艺有效降低溅射颗粒风险
YbF 薄膜常用于：
低折射率层
多层干涉膜（AR / HR）
精密光学元件镀膜
激光腔体光学膜
高功率激光系统窗口
稀土激光相关功能薄膜
红外窗口薄膜
红外光学防护层
光通信相关薄膜结构
绝缘层
介电层
光电器件界面层
稀土光学材料研究
低损耗介质薄膜
特殊光谱响应薄膜
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 决定薄膜光学损耗与稳定性 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研与工业溅射系统 |
| 厚度 | 3–10 mm | 影响靶材寿命与功率匹配 |
| 致密度 | ≥90–95% | 提高溅射稳定性，降低颗粒 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止靶材破裂 |
| 制备工艺 | CIP / HP / HIP | 确保材料均匀性与机械稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| YbF₃ | 低吸收、稀土特性 | 光学薄膜、激光器件 |
| ZrF₄ | 高透明性、低折射率 | UV / IR 光学薄膜 |
| MgF₂ | 极低折射率 | 抗反射膜 |
| AlF₃ | 化学惰性强 | UV 光学保护层 |
| YF₃ | 稀土氟化物、稳定性高 | 光学与红外薄膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| YbF 靶材适用于哪种溅射方式？ | RF 溅射更常用，DC 亦可在合适条件下使用。 |
| 氟化镱是否容易吸潮？ | 稍有吸湿性，建议真空密封保存。 |
| 薄膜适合高功率激光吗？ | 是，YbF 薄膜具有低吸收特性。 |
| 是否支持大尺寸靶材？ | 支持 Ø300 mm 及定制规格。 |
| 靶材是否脆？ | 属于氟化物脆性材料，但 HIP 工艺可提高结构稳定性。 |
| 是否支持科研小批量？ | 支持，一片起订。 |
真空密封防潮包装
内部防震缓冲结构
外层出口级硬箱
附 ICP 杂质分析、尺寸与致密度检测报告
确保靶材在运输与存储过程中保持洁净、稳定与可追溯。
氟化镱靶材（YbF）凭借其优异的光学性能、稀土材料特性与良好的化学稳定性，在光学镀膜、激光系统、红外器件及高端科研领域具有重要应用价值。苏州科跃材料可提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 YbF 溅射靶材，满足从科研到工业生产的多样化需求。
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📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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