氟化镨靶材（PrF）

产品简介（Introduction）

氟化镨（PrF）是一类重要的稀土氟化物材料，因其优异的光学透明性、化学稳定性和介电特性，被广泛应用于光学镀膜、红外窗口、电介质薄膜、激光系统以及科研用功能薄膜制备。
作为磁控溅射靶材，PrF 能在低缺陷条件下形成均匀致密的介电薄膜，对于高端光学和电子器件制造具有关键意义。

氟化镨薄膜具有以下特性：

• 折射率低且稳定

• 具有宽透光窗口（紫外至红外）

• 热稳定性优秀

• 与多种基底兼容

产品详情（Detailed Description）

氟化镨靶材通常采用 高纯粉体 + 冷等静压（CIP）成形 + 真空/惰性气氛烧结 制作，确保靶体致密、均匀且无裂纹。
根据客户的溅射设备和工艺要求，可提供下列规格：

• 纯度：99.9%（3N）– 99.99%（4N）

• 尺寸范围：直径 25–300 mm（常规为 2″、3″、4″）

• 厚度：3–6 mm

• 密度：≥ 95–99% TD

• 晶体结构：致密陶瓷结构

• 靶材形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶

• 背板结合：可选 Cu / Ti / In 焊（提升散热性能）

工艺性能优势

• 极低杂质含量：提升光学透过率与膜层纯净度

• 优异的热稳定性：在高功率溅射下不易分解

• 良好成膜一致性：膜层均匀、缺陷控制出色

• 高致密结构：提升溅射速率、减少颗粒

应用领域（Applications）

氟化镨靶材在光学和薄膜制造领域具有广泛用途，包括：

1. 光学镀膜（Optical Coatings）

• 低折射率光学薄膜

• 激光系统中高损伤阈值薄膜

• 紫外至红外范围内的窗口与防反射膜

2. 电介质薄膜（Dielectric Films）

• 高稳定介电层

• 微电子器件封装

• 多层光学堆叠结构的介质层

3. 光电器件（Optoelectronics）

• 传感器保护层

• 红外器件封装材料

• 稳定化光学界面薄膜

4. 精密仪器与科学研究

• 透镜保护膜

• 稀土光学储能材料

• 高反膜/高透膜功能结构开发

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 真空密封防潮铝箔袋

• 外层防震泡沫 + 多层缓冲包装

• 出口级木箱（国际空运/快递安全）

• 附检测报告与唯一追踪编号

结论（Conclusion）

氟化镨靶材（PrF）以其优异的光学透明性、稳定的介电性能与高纯度薄膜表现，被广泛应用于光学镀膜、红外窗口、光电器件以及科研领域。其高致密结构和稳定化工艺确保在溅射沉积中具有出色的膜层质量与工艺一致性。

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