氟化镧靶材（LaF / LaF₃）

产品简介（Introduction）

氟化镧（Lanthanum Fluoride，LaF₃）是一种重要的稀土氟化物材料，具有优异的化学稳定性、宽禁带、高光学透明性以及良好的离子导电特性。LaF₃ 在紫外（UV）、可见光（VIS）和红外（IR）波段均表现出良好的透过率，是光学镀膜、红外器件、激光系统和功能介电薄膜中的关键材料。

作为溅射靶材，氟化镧具有稳定的溅射行为、低颗粒生成（Low Particle）、良好的膜层均匀性和重复性，适用于 RF 磁控溅射 及 离子束沉积（IBD） 等薄膜制程，在科研与工业光学镀膜领域中被广泛采用。

产品详情（Detailed Description）

氟化镧靶材通常采用高纯原料，通过真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（Hot Pressing, HP）或热等静压（HIP）工艺制备，以确保高致密度和稳定的化合物结构。

• 化学式： LaF₃（常用），亦可提供特殊 LaF 配比

• 纯度： 99.9%–99.999%（3N–5N，可定制）

• 密度： ≥95% 理论密度

• 尺寸： Ø25–Ø300 mm（支持矩形靶定制）

• 厚度： 3–6 mm（可定制超薄或加厚规格）

• 制造工艺： Vacuum Sintering / HP / HIP

• 背板选项： Cu / Ti / Mo（支持铟焊）

• 外观颜色： 白色至浅灰白色致密陶瓷体，表面细腻均匀

高致密 LaF₃ 靶材可有效降低溅射颗粒，提升薄膜的光学一致性与沉积稳定性。

应用领域（Applications）

● 光学镀膜（Optical Coatings）

• 紫外与红外光学窗口

• 增透膜（AR Coatings）

• 激光光学系统保护层

• 多层干涉滤光片

● 激光与红外系统

• 高功率激光器光学元件

• 红外探测与成像系统

• 高能量密度光学薄膜

● 半导体与电子薄膜

• 介电绝缘层

• 高电阻薄膜

• 离子导电功能层

• MEMS 与传感器器件薄膜

● 科研与功能材料研究

• 稀土氟化物薄膜研究

• 离子导体与固态电解质相关研究

• 与 MgF₂、CaF₂、SrF₂、YF₃ 等氟化物的多层膜设计

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 双层真空密封包装

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡棉固定

• 出口级木箱运输

• 附 COA 与批次追溯编号

结论（Conclusion）

氟化镧靶材（LaF₃）凭借其优异的光学透明性、稳定的化学性质和良好的薄膜沉积行为，在光学镀膜、激光系统、红外器件及先进材料研究中具有重要应用价值。高纯、高致密 LaF₃ 靶材能够显著提升薄膜质量，是科研与工业镀膜领域的可靠选择。

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