氟化镝靶材（DyF / DyF₃）

产品简介（Introduction）

氟化镝（Dysprosium Fluoride，DyF₃）是一种重要的稀土氟化物材料，具有优异的化学稳定性、宽禁带、高热稳定性以及独特的磁学与光学特性。由于镝元素本身具有较强的磁各向异性和稀土特性，DyF₃ 薄膜在光学镀膜、磁光材料、介电薄膜及高端科研领域中具有重要应用价值。

作为溅射靶材，氟化镝具备稳定的溅射速率、低颗粒生成（Low Particle）、良好的膜层致密度和重复性，适用于 RF 磁控溅射 与 离子束沉积（IBD） 工艺，广泛用于科研级与工业级功能薄膜制备。

产品详情（Detailed Description）

氟化镝靶材采用高纯稀土原料，通过真空烧结（Vacuum Sintering）、热压（Hot Pressing, HP）或热等静压（HIP）工艺制备，以获得高致密度与均匀稳定的化合物结构。

• 化学式： DyF₃（主流）；亦可提供 DyF 特殊配比

• 纯度： 99.9%–99.999%（3N–5N，可定制）

• 密度： ≥95% 理论密度

• 尺寸： Ø25–Ø300 mm（支持矩形靶定制）

• 厚度： 3–6 mm（支持薄靶或加厚规格）

• 制造工艺： Vacuum Sintering / HP / HIP

• 背板选项： Cu / Ti / Mo（支持铟焊）

• 外观颜色： 白色至浅灰白色致密陶瓷体，表面均匀细腻

高致密 DyF₃ 靶材可显著减少溅射颗粒，提高薄膜光学、介电与结构一致性。

应用领域（Applications）

● 光学镀膜（Optical Coatings）

• 红外与可见光光学薄膜

• 激光系统增透与保护层

• 多层光学干涉结构

● 磁光与功能薄膜

• 磁光功能薄膜

• 稀土磁性薄膜研究

• 特殊光–磁耦合材料

● 半导体与电子薄膜

• 高介电绝缘层

• 功能阻挡层

• MEMS 与传感器薄膜

● 科研与先进材料研究

• 稀土氟化物薄膜体系研究

• 与 YF₃、LaF₃、SrF₂、MgF₂ 等材料的多层结构设计

• 磁性与光学复合材料探索

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

• 双层真空密封

• 干燥剂防潮保护

• 防震泡棉固定

• 出口级木箱运输

• 随附 COA 与批次追溯编号

结论（Conclusion）

氟化镝靶材（DyF₃）凭借其稀土特性、良好的光学与潜在磁光性能，在光学镀膜、功能薄膜及先进材料研究中具有重要应用价值。高纯、高致密 DyF₃ 靶材可显著提升薄膜一致性与稳定性，是科研与高端镀膜工艺的可靠选择。

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