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氟化镉（CdFₓ，常见为 CdF₂）是一种重要的碱土型金属氟化物材料，具有良好的光学透明性、稳定的化学性质以及较低的晶格声子能量。CdF₂ 在紫外、可见光及近红外波段表现出良好的透过性能，同时具备一定的离子导电特性，因此在光学镀膜、光电器件、辐射探测及功能薄膜研究中具有重要应用价值。
作为磁控溅射靶材，氟化镉能够稳定沉积成分均匀、低吸收、低应力的氟化物薄膜，适用于科研级光学薄膜制备与特种功能材料研究。
苏州科跃材料科技有限公司采用高纯氟化镉原料，通过冷等静压（CIP）、热压（HP/HIP）、真空烧结及精密加工工艺制备 CdF 靶材，确保靶材具有良好的致密度、机械稳定性和可重复的溅射性能。
化学组成：CdF₂
纯度等级：99.9% / 99.99%（3N–4N）
靶材尺寸：Ø25–300 mm
厚度范围：3–10 mm
致密度：≥ 90–95%（氟化物材料典型范围）
制造工艺：CIP / HP / HIP / 真空烧结
背板选择：Cu / Ti 背板（支持铟焊或扩散焊）
形状：圆靶、矩形靶、阶梯靶、多段拼接靶
光学透明性良好，适用于功能光学薄膜
薄膜吸收低、均匀性好
化学稳定性强，适合真空沉积环境
致密度高，溅射过程稳定
膜层应力低，重复性好
CdF 薄膜可用于：
光学保护膜
多层介质膜结构
光学窗口功能薄膜
光电器件界面层
紫外与可见光探测相关薄膜
辐射探测器辅助材料
CdF₂ 具有一定的离子导电特性，可用于：
固态离子导体研究
特殊功能介质层
绝缘层
介电层
实验型功能薄膜
氟化物物性研究
新型光学与电子材料探索
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9–99.99% | 决定薄膜光学与电学性能 |
| 直径 | Ø25–300 mm | 适配科研与工业溅射系统 |
| 厚度 | 3–10 mm | 影响靶材寿命与功率匹配 |
| 致密度 | ≥ 90–95% | 提高溅射稳定性，降低颗粒 |
| 背板 | Cu / Ti / In bonding | 改善散热、防止靶材破裂 |
| 制备工艺 | CIP / HP / HIP | 确保材料均匀性与稳定性 |
| 材料 | 主要优势 | 典型应用 |
|---|---|---|
| CdF₂ | 光学透明、功能介质特性 | 光学薄膜、科研 |
| MgF₂ | 极低折射率 | AR 膜 |
| CaF₂ | 宽波段透过 | 红外窗口 |
| YbF₃ | 稀土低声子能 | 激光与光子器件 |
| ZrF₄ | UV / IR 高透明性 | 光学镀膜 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| CdF 靶材适用于哪种溅射方式？ | RF 溅射更常用，DC 在合适条件下亦可。 |
| 氟化镉是否易吸潮？ | 稍有吸湿性，建议真空密封保存。 |
| CdF₂ 薄膜主要用于哪些研究？ | 光学薄膜、离子导电与功能介质研究。 |
| 是否支持大尺寸靶材？ | 支持 Ø300 mm 及非标定制。 |
| 靶材是否脆？ | 属于氟化物陶瓷材料，HIP 工艺可提高稳定性。 |
| 是否支持小批量科研订单？ | 支持，一片起订。 |
真空密封防潮包装
内部多层防震缓冲
外层出口级硬箱
附 ICP 杂质分析、致密度与尺寸检测报告
确保靶材在运输与储存过程中保持洁净、稳定与可追溯。
氟化镉靶材（CdF）凭借其良好的光学透明性、稳定的化学性能及功能介质特性，在光学镀膜、光电器件与基础材料研究中具有重要价值。苏州科跃材料可提供高纯度、高致密度、多规格可定制的 CdF 溅射靶材，满足科研与工业应用需求。
如需获取报价或技术资料，请联系：
📧 sales@keyuematerials.com
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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